■第101回研究会(1994.1)■
シンクロトロン放射光(SR)と結晶工学
平成6年1月28日
 
 


放射光利用の現状と将来 千川 純一 (姫路工大理)
SR励起固相成長 佐藤 史郎、平野 喜之、後藤 克幸 (NHK技研),
松下正 (高エネ研),千川 純一 (姫路工大理)
放射光励起によるSi表面清浄化とエピタキシー 杉田 義博、奈良 安雄、伊藤 隆司 (富士通)
SRリソグラフィの現状と将来 阿刀田 伸史 (ソルテック筑波研)
エピタキシャル成長の微視機構
—高輝度放射光を用いた表面敏感XAFSによる研究—
大柳 宏之 (電総研)
半導体表面・界面のin situ評価 尾嶋 正治、渡辺 義夫、前田 文彦、杉山 宗弘、
前山 智 (NTT境界領域研)
時間分解X線回折法による
 シリコンのレーザアニール過程の研究
小島 繋、劉 光佑、工藤 喜弘、川戸 清爾 (ソニー中研)
石川 哲也 (東大工),松下 正 (光エネ研)


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