■第106回研究会(1997.1)■
多結晶薄膜の結晶工学
平成9年1月24日
 
 


結晶格子欠陥と多結晶薄膜 竹田 精治 (阪大院理)
半導体およびセラミックスの結晶粒界の原子・電子構造
  —理論計算によるアプローチ—
香山 正恵 (大阪工業技研)
レーザアニールを用いた多結晶シリコン膜形成と
 その電子デバイスへの応用
鮫島 俊之 (東京農工大)
機能性セラミックス粒界の反応・構造と電子状態 田中 順三 (無機材研)
高誘電率(Ba,Sr)TiO3薄膜の結晶性と誘電特性 堀川 剛 (三菱電機)
Al配線のマイグレーションと多結晶の性質との関わり

岡林 秀和 (NEC研究開発グループ)

多結晶Al薄膜の配向成長とエレクトロマイグレーション耐性

金子 尚史、豊田 啓、蓮沼 正彦 (東芝)



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