■第112回研究会(2000.6)■
ジャイアントマイクロエレクトロニクスの結晶工学
—大面積ポリシリコンとその応用—
平成12年6月20日
島津製作所大阪支社マルチホール 案内
 
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表紙(pdf)

イントロダクトリー 北原 邦紀 (島根大) 1
異種基板上への多結晶Si直接堆積と電子物性制御 冬木 隆, 畑山 智亮, 浦岡 行治 (奈良先端大) 3
高品質多結晶シリコン薄膜形成技術 鮫島 俊之 (東京農工大) 11
ガラス上におけるシリコンの核形成サイトと凝固方向制御
 —単結晶Si-TFTの形成をめざして—
原 明人, 佐々木 伸夫 (富士通研) 19
エキシマレーザ光照射によるSiの超巨大結晶粒薄膜の形成 松村 正清 (東工大) 27
低温ポリシリコンTFT技術
 —p-Si-TFT技術の現状と将来展望—
小穴 保久 (東芝) 33
低温形成薄膜シリコン太陽電池 山本 憲治 (鐘淵化学) 39
キャスト法による多結晶シリコン太陽電池 白澤 勝彦 (京セラ) 45


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