■第82回研究会(1983.2)■
赤外線の結晶工学への応用
昭和58年2月4日
 
 


最近の赤外分光器 新井 敏弘、小川 力 (筑波大物工)
フーリェ変換形赤外分光光度計の装置とソフトウェアー 松本 普 (日本ディジラボ)
赤外レーザ分光法によるシリコン結晶評価法 大沢 昭、本田 耕一郎 (富士通研)
CO2レーザエリプソメトリーによる
 半導体中のキャリヤ濃度深さ分布の測定
本岡 輝昭、蕨迫 光紀、徳山 巍 (日立中研)
渡辺 俊典 (日立システム研)
シリコン中の酸素、炭素及び窒素濃度の測定 宇佐美 俊郎 (東芝総研)
赤外線トモグラフィーによる半導体結晶欠陥の観察 守矢 一男、小川 智哉 (学習院大理)
半導体研究への速赤外の応用
—不純物、格子欠陥の問題について—
服部 武志 (阪大工)
赤外吸収によるSiのライフタイム測定 蕨迫 光紀、徳山 巍 (日立中研)
赤外線レーザアニール 相崎 尚昭 (日電基礎研)


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