■第86回研究会(1985.2)■
SOI (Semiconductor on Insulator)
—基礎と将来—
昭和60年2月22日
 
 


SOI (Semiconductor on Insulator)技術 鶴島 稔夫 (電総研)
エピタキシャル絶縁膜によるSOI構造 石原 宏 (東工大)
電子ビームアニールによるSOI構造 浜崎 利彦、須黒 恭一、丹呉 浩侑 (東芝超LSI研)
レーザ再結晶化における配向性制御 江上 浩二、木村 正和 (日電基礎研)
KClのグラフォエピタキシャル成長 小林 俊雄 (日立中研)
SIMOXおよびFIPOS技術 泉 勝俊、今井 和雄 (電々厚木通研)


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