■第87回研究会(1986.2)■
光励起プロセス技術
昭和61年2月21日
 
 


光励起プロセス技術 英 貢 (豊橋技科大)
光CVDによる太陽電池用アモルファスSi膜の形成 小長井 誠 (東工大)
光励起Siエピタキシー 山崎 辰也、杉野 林志、伊藤 隆司 (富士通研)
ジシランとアンモニアを用いた
 光CVDシリコン窒化膜の形成とその膜質評価
奥平 秀和、新谷 昭 (日立中研)
VUV照射による光CVD-SiO2膜の形成 高橋 淳一、前田 正彦、牧野 孝裕 (厚木通研)
レーザCVDによる金属膜形成 岸田 俊二 (日電光エレ研)
光励起エッチング 早坂 伸夫、関根 誠、岡野 晴雄、堀池 靖浩
(東芝超LSI研)


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