■第8回シンポジウム(1991.7)■
ダイヤモンド薄膜の成長と評価
平成3年7月22日
 
 


ダイヤモンド薄膜の気相成長とエピタクシー 犬塚 直夫 (青学大)
高周波プラズマCVD法による
Fe/Si基板上でのダイヤモンドの合成
島田 義人、六倉 信喜、町 好雄 (東京電機大)
ダィヤモンドの核生成機構 湯郷 成美、金井 尚、木村 忠正 (電通大)
半導体ダイヤモンド薄膜からの励起子発光 川原田 洋 (早大)、平木 昭夫 (阪大)
DCプラズマCVD法により
Al基板上に作成したダイヤモンド膜の成長過程
野田 三喜男、生田 敬之 (東京農工大)、
谷口 一哉、中尾 節男、丸野 重雄 (名工大)
固体NMRによる合成ダイヤモンドの評価 柳下 皓男 (富士通研)
CVD成長したダイヤモンド表面の大気中STM観察 築野 孝、今井 貴浩、西林 良樹、浜田 耕太郎、
藤森 直治 (住友電工)
気相合成ダイヤモンド多結晶薄膜の電気伝導特性 武藤 泰明、杉野 隆、白藤 純嗣 (阪大)、
小橋 宏司 (神戸製鋼)
熱フィラメントCVD法による
ダイヤモンド膜の成長と電子デバイスへの応用
飯田 昌盛、黒須 楯生、秋葉 幸男、岡野 健
(東海大)


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