| 主 催 | 応用物理学会 九州支部 |
| 開催日時 | 平成25年12月25日（水）10:30-12:30 |
| 場 所 | 九州大学伊都キャンパス ウエスト２号館５階５４７号室 〒819-0395 福岡市西区元岡744 |
| 講 師 | J. G. Han 教授（Sungkyunkwan University, Korea） |
| 演 題 | Novel plasma technology for Si thin film solar cells |
| 概 要 | 低コスト、高効率太陽電池を実現するため、微結晶シリコン薄膜の高品質化、高速成長を目指し、プラズマからの薄膜成長過程の理解に基づき設計した新しいプラズマ源による微結晶シリコン薄膜堆積について解説する． |
| 参加費 | 無料 |
| 世話人 | 白谷 正治 九州大学大学院 システム情報科学研究院 電話: 092-802-3733，Fax: 092-802-3734 email: siratani@ed.kyushu-u.ac.jp |
支部長 ： 原 一広（九州大学）
khara[at]nucl.kyushu-u.ac.jp
庶務幹事： 林 健司（九州大学）
hayashi[at]ed.kyushu-u.ac.jp
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tate[at]ed.kyushu-u.ac.jp