第19回プラズマエレクトロニクス講習会 案内

「プラズマプロセスの基礎と応用最前線」

‐多様化するプラズマ応用プロセスとその制御‐

◆主　催：応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

◆日　時：2008年10月30日(木)‐31日(金)

◆場　所：東京工業大学（大岡山キャンパス）百年記念館 ３F フェライト会議室

〒152-8552　東京都目黒区大岡山2−12−1

TEL: 03-5734-2098 (代表)

http://www.titech.ac.jp/home-j.html（←ページ右上の”交通案内”参照）

◆趣　旨

プラズマプロセス技術は、低圧下における微細加工、薄膜堆積、表面改質をはじめ、大気圧及び液相中での洗浄・滅菌等に欠かすことの出来ない産業基盤技術です。近年、プラズマプロセスは多様化・複雑化しており、所望のプラズマ生成とその制御が益々重要になってきております。このような背景を踏まえ、本講習会では、各分野をリードする一流の先生を招き、プラズマプロセスの基礎と応用に関する講義を行います。プラズマの基礎を勉強したい学生からプラズマ技術の最新応用に関心のある技術者や研究者を対象として，本講習会を企画しました。

プログラム

【10月30日（木）10:00〜17:00】

�@10:10-11:40 プラズマの生成・制御

菅井 秀郎（中部大学）

＜昼食＞

�A13:00-14:30 プラズマ計測

赤塚 洋（東京工業大学））

＜休憩15分＞

�B14:45-15:45 プラズマシミュレーション

田中 正明（ペガサスソフトウェア）

＜休憩15分＞

16:00-17:00 ポスターセッション

ダウンロード（右クリック、”対象をファイルに保存”）

※各社製品案内、大学・研究機関の研究開発成果を紹介する。

参加者間の情報交換の場を提供する。

ポスターサイズ：115×175cm以下でご準備願います。

※会場の都合により、誠に勝手ながら30分短縮させて頂きました。

ご容赦下さいますようお願い申し上げます。

【10月31日（金）10:00〜17:00】

�C10:10-11:40 プラズマによる薄膜形成技術

佐々木 敏明（カネカ）

＜昼食＞

�D13:00-14:30 プラズマによるエッチング技術

林 俊雄（名古屋大学）

＜休憩15分＞

�E14:45-15:45 大気圧プラズマの応用

湯浅 基和（積水化学工業）

＜休憩15分＞

�F16:00-17:00 液相プラズマの応用

秋山 秀典（熊本大学）

◆講義シラバス

下記より、ご覧下さい。

ダウンロード（右クリック、”対象をファイルに保存”）

◆参加費（テキスト代を含む）

	一　般	学　生
応用物理学会＆ プラズマエレクトロニクス分科会個人会員	30,000 円	8,000 円
応用物理学会個人会員	33,000 円	11,000 円
プラズマエレクトロニクス分科会のみの個人会員	42,000 円	15,000 円
協賛学協会，応物法人賛助会員	42,000 円	15,000 円
その他	45,000 円	18,000 円

※非会員の方でも参加申込時にPE分科会（年会費3,000円）に入会いただければ，会員扱いとさせて頂きます。

◆参加申込

申込用紙の所定欄に記入して，できるだけEmail添付でお申し込みお願いします。

ダウンロード（右クリック、”対象をファイルに保存”）

定　　員：100名

申込締切：10月17日（金）（但し，余裕のある場合には期日後も受付けます）

参加費振込先：

三井住友銀行　本店営業部　普通預金　口座番号　３３３９８０８

(社) 応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会

※参加費の振込みにはできるだけ個人名（参加者名）を記載してください。

※参加費振込期限：10月22日

申込み・問合せ：

〒305-8568 つくば市梅園１−１−１

（独）産業技術総合研究所　太陽光発電研究センター シリコン新材料チーム　

布村 正太

TEL: 029-861-5080 (内線45075)

FAX: 029-861-3367

plasma_electronics@m.aist.go.jp

以上