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(2010年6月22日(火)更新)
２０１０年度
第127回研究集会
日時：2010年7月22日(木)
場所：産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館バイオ・IT融合研究棟 11F 会議室1
〒135-0064 東京都江東区青海2-4-7
http://unit.aist.go.jp/waterfront/jp/menu/access_map/index.html
担当：ULSIデバイス研究委員会
テーマ:「VLSIシンポジウム特集（先端 CMOSデバイス・プロセス技術）」
参加費：分科会員 2000円、非分科会員 4000円
詳細
第126回研究集会
日時：2010年7月9日(金)
場所：機械振興会館会議室：B3階 研修-2
(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
東京メトロ日比谷線神谷町駅下車徒歩8分
http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
オーガナイザー：松澤一也、園田賢一郎
担当：モデリング研究委員会
テーマ:「エマージング・デバイスのモデリングに向けて」
参加費：分科会員 2000円、非分科会員 4000円
詳細
第125回研究集会
日時：2010年6月22日（火）
場所：東京大学駒場リサーチキャンパス生産技術研究所 An棟中セミナー室 （An401・402）
http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html)
担当：表面・界面・シリコン材料研究委員会
テーマ:「ゲートスタック技術の進展 −新構造・新材料を中心に」
共催：電子情報通信学会SDM研究会
参加費：無料 (講演予稿集1500円)
懇親会：2000円
詳細
第124回研究集会
日時：2010年5月31日（月）
場所：グランキューブ大阪
担当：接合技術研究委員会
テーマ:接合研究集会 「Lab からFab へ 〜今使える最先端ドーピング・接合技術」
共催：SEMI Japan
協賛：IEEE Kansaiチャプタ
詳細
第123回研究集会
日時：2010年5月24日（月）
場所：海事センタービル （東京都千代田区麹町4-5）
担当：リソグラフィ研究委員会
テーマ:「SPIE Advanced Lithography 2010特集」
共催：応用物理学会・次世代リソグラフィ技術研究会
参加費：分科会員 2000円、非分科会員 4000円
詳細
２００９年度
第122回研究集会
日時：2010年3月24日（水） 10:00 - 16:00
場所：早稲田大学 早稲田キャンパス 研究開発センター120-5号館
〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513
http://www.waseda.jp/jp/campus/waseda.html
東京メトロ東西線「早稲田駅」3a出口徒歩3分
担当：Siナノテクノロジー研究委員会
テーマ:「シリコンプラットフォームテクノロジ」
詳細
第121回研究集会
日時：2010年3月12日（金） 13:00 - 17:00
場所：学習院大学 南2号館200教室
（〒171-8577 東京都豊島区目白1-5-1 JR山手線目白駅 徒歩3分）
http://www.gakushuin.ac.jp/mejiro.html
担当：表面・界面・シリコン材料研究委員会
テーマ:「半導体シリコン単結晶ウェーハを特徴づける評価技術」
詳細
第120回研究集会
日時：2010年2月25日（木） 13:00 - 17:00
場所：東京大学浅野キャンパス工学部９号館１階大会議室
（東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車）
http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_10_j.html
担当：ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
テーマ:「エッチング技術の最近のトピックスと将来展開」
詳細
第119回研究集会
テーマ：「配線・実装技術と関連材料技術」
応用物理学会シリコンテクノロジー分科会多層配線システム研究委員会主催
（電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ） 共催）
日時 平成22年2月5日（金）10:00 - 17:20
会場 機械振興会館 地下3階 研修1号室
詳細は http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm をご覧ください。
交通 営団地下鉄日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
営団地下鉄三田線御成門駅下車 徒歩8分
都営地下鉄大江戸線赤羽橋駅下車 徒歩10分
都営地下鉄浅草線・大江戸線大門駅下車 徒歩10分
JR浜松町駅下車 徒歩15分
詳細
第118回研究集会
日時：2010年1月29日（金） 9:30 - 17:00（終了後，懇親会）
場所：機械振興会館 地下3階 研修1号室（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8）
http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
テーマ:「IEDM特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術）」
共催：電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会
詳細
第117回研究集会
日時：2010年 1月22日(金) 13:00〜17:00
場所：早稲田大学 早稲田キャンパス 研究開発センター120-5号館
〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513
http://www.waseda.jp/jp/campus/waseda.html
東京メトロ東西線「早稲田駅」3a出口徒歩3分
オーガナイザー：水野文二(UJTラボ)
コーディネーター：青山敬幸(Selete)、川崎洋司(ルネサス)、品田賢宏(早稲田大)
テーマ：接合研究集会「不純物ドーピングの挑戦と将来展望−不純物ドーピングは使えるか？」
参加費：分科会員 2,000円 非分科会員 4,000円
共催：SEMIジャパン
詳細
第116回研究集会
日時： 2009年11月12日(木) 10：00〜16：20
2009年11月13日(金) 10：00〜16：15
場所： 機械振興会館 地下３階研修１号室
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
オーガナイザー：小田中紳二、青木伸俊、秋山豊
テーマ：プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
参加費：分科会員 2000円、非分科会員 4000円
共催： 電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
詳細
第115回研究集会
「VLSIシンポジウム特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術）」
日時： 2009年7月21日(火) 9:30〜17:20
場所： 東京大学浅野キャンパス 武田先端知ビル ５階 武田ホール
（東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅あるいは南北線東大前駅下車）
http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_16_j.html
担当： ULSIデバイス研究委員会
参加費：分科会員2000円、非会員4000円
詳細
第114回研究集会
日時： 2009年7月9日（木） 10：40-16：00
場所： 機械振興会館会議室：6-66
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
オーガナイザ： 松澤一也、小川真人、小田中紳二
テーマ： 信頼性モデリング 〜あなたはそのデバイスを信頼しますか？〜
参加費： 分科会員 2000円、非分科会員 4000円
詳細
第113回研究集会
日時：２００９年６月１９日（金）９：００〜１８：０５
会場：東京大学駒場リサーチキャンパス
生産技術研究所 An棟中セミナー室 An401・402
（〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1．
東北沢駅より徒歩７分, 駒場東大前駅より徒歩１０分
または代々木上原駅より徒歩１２分．
http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html
東京大学 生産技術研究所 藤岡洋．03-5452-6342）
詳細
第112回研究集会
日時： 2009年5月20日（水） 13：30-17：00
場所： 中小企業会館 （東京都中央区銀座2-10-18）
オーガナイザ： 井谷俊郎 （Selete）
テーマ： SPIE Advanced Lithography 2009特集
共催： 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会
詳細
IWJT 2009 (9th International Workshop on Junction Technology 2009)
日時：2009年6月11日(木)〜12日(金)
場所：京都大学・百周年時計台記念館
共催：応用物理学会シリコンテクノロジー分科会、IEEE Electron Device Society
協賛：SEMIジャパン、Chinese Institute of Electronics, 他
URL : http://www.iwailab.ep.titech.ac.jp/IWJT/
詳細問合せ先：IWJT 2009事務局
東京工業大学 筒井一生
Tel/Fax: 045-924-5462
E-mail: ktsutsui"at"ep.titech.ac.jp("at"は@に置き換えて下さい）
締め切り：一般投稿：2009年3月2日(月)
レート・ニュース：2009年4月20日(月)
２００８年度
第111回研究集会
シリコンナノテクノロジー研究委員会
テーマ：Siナノテクノロジーとスピントロニクス
日時：平成21年3月16日（月）10:00〜17:00
場所：東京工業大学百年記念館フェライト会議室
(http://www.libra.titech.ac.jp/cent/welcome5.html)
詳細
第110回研究集会
応用物理学会シリコンテクノロジー分科会研究集会
テーマ：シリコン単結晶ウェーハ製造におけるプロセス技術および評価のイノベーション
日時：2009年3月6日(金) 13:30〜17:00
場所：学習院大学 南2号館200教室
(http://www.gakushuin.ac.jp/mejiro.html)
詳細
第109回研究集会
ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
テーマ：エッチングテクノロジーとシミュレーションの最前線
日時：平成２１年２月２５日（水）13:30〜17:00
場所：東京大学浅野キャンパス武田先端知ビル3階306号室
（東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車）
http://www.vdec.u-tokyo.ac.jp/Guide/access.html
詳細
第108回研究集会
多層配線システム研究委員会
電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ）
テーマ：配線・実装技術と関連材料技術
日時：平成21年2月9日（月）10:00〜16:30
場所：機械振興会館 地下3階 研修1号室
(http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
詳細
第107回研究集会
応用物理学会シリコンテクノロジー分科会研究集会
兼 電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会
テーマ：「IEDM特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術）」
日時：2008年1月26日（月）9:30 - 16:50（終了後，懇親会）
場所：機械振興会館 地下3階研修1号室
(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
(http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
詳細
第106回研究集会
未踏・ナノテバイステクノロジー第151委員会研究会
ナノバイオフュージョン分科会研究会
テーマ：MicroTAS・MEMS/NTの化学・バイオ・医療応用への展開
日時：2008年12月1日(月) 13:00〜17:30
場所：早稲田大学理工学部 62号館Ｗ棟大会議室
(http://www.sci.waseda.ac.jp/campus-map/)
詳細
第105回研究集会
電子情報通信学会 シリコン材料・テバイス研究会(SDM)
テーマ：プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
日時：2008年11月13日(木) 13:00〜16:00
2008年11月14日(金) 10:00〜17:05
場所：機械振興会館 B3階 研修-1
(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
詳細
第104回研究集会
ULSIデバイス研究委員会
テーマ：「VLSIシンポジウム特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術）」
日時：2008年7月24日（木）9:50−17:15
場所：東京大学生産技術研究所An棟3階大会議室
〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1
http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/
生産技術研究所は，駒場リサーチキャンパス内にあります
教養学部のキャンパスとは異なります．webで場所をお確かめください
（右上のAccess Mapをクリック，さらにキャンパスマップをクリック）
生産技術研究所の「An棟」に入りエレベータで3階にお上がり下さい
web上の地図では「A棟」となっていますが同じ建物です
最寄り駅：井の頭線 駒場東大前駅
小田急線 東北沢駅
小田急線・地下鉄千代田線 代々木上原
詳細
第103回研究集会
モデリング研究委員会
テーマ：シリコンCMOSを超えるフロンティアデバイスのモデリング
日時：2008年7月11日（金）9:55−16:30
場所：機械振興会館 B3階 研修-1
(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
詳細
第102回研究集会
接合研究委員会
テーマ：接合技術
日時：2008年6月20日（金）13:30 〜 17:00
場所：グランキューブ大阪
http://www.gco.co.jp
詳細
第101回研究集会
表面・界面・シリコン材料研究委員会
テーマ：「ゲートスタック構造の新展開：高移動度チャネル技術を中心に」
日時：2008年 6月 9日(月) 13：30〜17：40 （懇親会18:00-19:30)
2008年 6月10日(火) 09：30〜15：00
会場：東京大学 駒場リサーチキャンパス生産技術研究所
An棟中セミナー室 （An401・402）
〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1
http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/campusmap.html
http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html
共催：電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ）
詳細
第100回研究集会
オーガナイザ：井谷俊郎 （Selete）
テーマ：SPIE Advanced Lithography 2008特集
日時：2008年5月16日（金） 13：30-17：00
場所：東京工業大学 大岡山キャンパス 南3号館2階電気系第1会議室
詳細
２００７年度
第99回研究集会
多層配線システム研究委員会
テーマ：配線・実装技術と関連材料技術
日時：平成20年2月8日（金）10:00 - 17:00
場所：機械振興会館 地下3階 研修2号室
http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
詳細
第98回研究集会
ULSIデバイス研究委員会
（兼 電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会）
テーマ 「IEDM特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術）」
日時：2008年1月24日（木）9:30 - 16:50（終了後，懇親会）
場所：機械振興会館 地下3階 研修2号室（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8）
http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
詳細
特別研究集会
「ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理」（第13回研究会）
日時：2008年1月14日（月）〜15日（火）
場所：東レ総合研修センター（静岡県三島市末広町21-9）
http://www.toray.co.jp/location/loc_401.html
詳細
第97回研究集会
シリコンナノテクノロジー研究委員会
テーマ：「Beyond CMOS」
日時：11月26日（月）10:00〜17:00
場所：東京工業大学 大岡山キャンパス
東京工業大学百年記念館 フェライト会議室
（東京都目黒区大岡山2-12、大井町線或いは目蒲線大岡山駅下車）
http://www.libra.titech.ac.jp/cent/welcome5.html
詳細
第96回研究集会
共催：電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(ＳＤＭ）
電子情報通信学会 VLSI 設計技術研究会（ＶＬＤ）
テーマ：「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」
日時： 平成19年10月30日（火） 〜 平成19年10月31日（水）
場所： 機械振興会館 地下３階 研修−１室
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 地下鉄神谷町下車徒歩10分
http://www.jspmi.or.jp/
詳細
論文募集
SDM,VLD,応物シリコンテクノロジー分科会共催研究会
テーマ：「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」
開催日時： 平成19年10月30日（火） 〜 平成19年10月31日（水）
論文申込締切： 平成19年8月10日（金）
場所： 機械振興会館 地下3階 研修１号室
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
http://www.jspmi.or.jp/map.htm
詳細
第95回研究集会
ULSIデバイス研究委員会
テーマ：「最先端CMOS技術（VLSIシンポジウム特集）」
日時： 平成19年7月24日（火） 9：50 − 17：10
場所： 東京大学生産技術研究所An棟3階大会議室
〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1
生産技術研究所は，駒場リサーチキャンパス内にあります。
教養学部のキャンパスとは異なります。
生産技術研究所の「An棟」に入りエレベータで3階にお上がり下さい
web上の地図では「A棟」となっていますが同じ建物です
最寄り駅：井の頭線 駒場東大前駅
小田急線 東北沢駅
小田急線・地下鉄千代田線 代々木上原駅
アクセスマップ:http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html
キャンパスマップ:http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/campusmap.html
詳細
第94回研究集会
モデリング研究委員会
テーマ：「統計的ばらつきを考慮したＴＣＡＤへ向けて」
日時： 平成19年7月6日（金） 9：55−16：10
場所： 機械振興会館 ６階 ６６会議室
（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 地下鉄神谷町下車徒歩10分）
http://www.jcmanet.or.jp/gaiyo/map_kaikan.htm
詳細
第93回研究集会
表面・界面・シリコン材料研究委員会
テーマ：「ゲートスタック構造の新展開」
日時：平成19年6月 7日(木) 13：30-17：45 （懇親会18:00-19:30)
6月 8日(金) 09：00-15：55
場所：広島大学 東広島キャンパス 学士会館２階ホール
（東広島市鏡山1丁目2-2 JR西条駅から広島大行きバス15分 「広大中央口」下車徒歩10分）
キャンパスMAP：http://www.hiroshima-u.ac.jp/add_html/access/ja/saijyo2.html
東広島キャンパスへのアクセス：http://www.hiroshima-u.ac.jp/category_view.php?folder_name=access&lang=ja
共催：電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ）
詳細
第92回研究集会
リソグラフィ研究委員会
テーマ：「SPIE Advanced Lithography 2007 特集」
日時：平成19年5月11日（金）9：30-12：30
場所：海事センタービル
（東京都千代田区麹町4-5 有楽町線麹町駅徒歩1分）
http://www.transport-pf.or.jp/etc/u1_19.html
詳細
２００６年度
第91回研究集会
多層配線システム研究委員会
テーマ：「配線・実装技術と関連材料技術」
日時：平成19年2月5日（月）10:00〜17:00
場所：機械振興会館 地下3階2号室
（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 地下鉄神谷町下車徒歩10分）
http://www.jcmanet.or.jp/gaiyo/map_kaikan.htm
共催：電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ）
詳細
第90回研究集会
ULSIデバイス研究委員会
テーマ：「IEDM特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術）」
日時：2007年 1月26日(金) 9:30〜17:00
場所：機械振興会館 6階67号室
（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 地下鉄神谷町下車徒歩10分）
http://www.jcmanet.or.jp/gaiyo/map_kaikan.htm
詳細
第89回研究集会
ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
テーマ：「最先端プラズマプロセス技術」
日時：12月19日(火) 13:00〜17:40
場所：東京大学浅野キャンパスVDEC（武田先端知ビル）５階武田ホール
（東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車）
http://www.vdec.u-tokyo.ac.jp/Guide/access.html
詳細
第88回研究集会
リソグラフィ研究委員会
テーマ：「レジストLineEdgeRoughnessの課題」
日時：12月11日(月) 13:00〜17:30
場所：東京工業大学大岡山キャンパス 西八号館大会議室E1001
http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayamaO-j.html
の24番の建物
詳細
第87回研究集会
表面・界面・シリコン材料研究委員会
テーマ：「次世代プロセスを実現可能とする大口径Siウェーハの研究開発
−不純物や欠陥の新評価技術，強度維持，計算機シミュレーション−」
日時：12月1日(金) 9:30〜17:00
場所：東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル11階 ←変更あり
金沢工業大学大学院 東京虎ノ門キャンパス
http://www.kanazawa-it.ac.jp/tokyo/map.htm
詳細
第86回研究集会
モデリング研究委員会
テーマ：「半導体輸送モデリングの展開」
日時：11月17日(金) 10:00〜16:50
場所：大阪大学サイバーメディアセンター ７階(豊中地区)
（大阪府豊中市待兼山町1番32号 TEL: 06-6877-5111（代））
http://www.cmc.osaka-u.ac.jp/j/intro/location.html
詳細
第85回研究集会
シリコンナノテクノロジー研究委員会
テーマ：「次世代デバイスへのブレークスルー＝三次元化の試み＝」
日時：9月29日（金）10:00〜17:00
場所：東京工業大学百年記念館フェライト会議室
（東京都目黒区大岡山2-12、大井町線或いは目蒲線大岡山駅下車）
詳細
第84回研究集会
モデリング研究委員会
テーマ：「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」特集
日時：2006年 9月25日(月) 13：30〜16：15
2006年 9月26日(火) 10：00〜16：40
場所：機械振興会館 地下3Ｆ 研修1号室
（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8．地下鉄神谷町下車徒歩10分）
http://www.jspmi.or.jp/
共催：電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ）
電子情報通信学会 VLSI 設計技術研究会（ＶＬＤ）準備中
詳細
第83回研究集会
ULSIデバイス研究委員会
テーマ：最先端CMOS技術（VLSIシンポジウム特集）
日時：2006年 7月20日（木）9:50〜17:40 （終了後，懇親会）
場所：東京大学生産技術研究所An棟3階大会議室
（東京都目黒区駒場4-6-1）
http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/
詳細
第82回研究集会
表面・界面・シリコン材料研究委員会
テーマ：「ゲート絶縁膜技術の展開と諸問題〜Si(110)基板、窒素添加、メタルゲート〜」
日時：2006年 6月21日(水) 13：00〜17：40
場所：広島大学東広島キャンパス 学士会館２階ホール
（東広島市鏡山1丁目2−2）
詳細
第81回研究集会
接合技術研究委員会
テーマ：接合技術ワークショップ
日時：2006年 6月12日（月）13:30〜17:00
場所：グランキューブ大阪（大阪国際会議場）10F 1002会議室
（大阪市北区中之島5-3-51）
共催：IEEE EDS Kansai Chapter, SEMIジャパン
詳細
第80回研究集会
表面・界面・シリコン材料研究委員会
テーマ：「シリコン結晶に関する基礎研究と応用技術ー若手研究者を中心とした討論会ー」
日時：2006年 2月10日(金) 9:30〜17:00
場所：学習院大学南3号館201教室（豊島区目白）
詳細
第79回研究集会
多層配線システム研究委員会
テーマ：「低誘電率層間膜，配線材料および一般」
日時：2006年2月6日（月）10:00〜17:00
場所：機械振興会館(東京タワー向かい) 6階67号室
（東京都港区芝公園3-5-8）
共催：電子通信情報学会シリコン材料・デバイス研究専門委員会
詳細
第78回研究集会
ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
テーマ：「バイオとエレクトロニクスの接点・融合」
日時：2006年 2月1日(水) 12:40〜17:40
場所：東京大学浅野キャンパスVDEC（武田先端知ビル）５階武田ホール
（東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車）
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第11回特別研究集会
薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会
テーマ：ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―
日時：2月3日（金）〜4日（土）
場所：東レ総合研修センター
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第77回研究集会
ULSIデバイス研究委員会
テーマ：「IEDM特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術）」
日時：2006年1月20日（金）9:30〜17:00（終了後，懇親会）
場所：機械振興会館 〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
共催：電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会
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２００５年度
第76回研究集会
モデリング研究委員会
テーマ：「ＴＣＡＤ技術の将来像」
日時：2005年 11月25日(金) 9:40〜16:45
場所：機械振興会館 地下3F 研修-2
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第75回研究集会
接合研究委員会
テーマ：「接合技術ワークショップ(ドーピング、エピ、シリサイド)」特集
日時：2005年 11月24日(木) 13:00〜17:00
場所：慶應義塾大学 日吉キャンパス 来往舎
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参加登録について
第74回研究集会
モデリング研究委員会
テーマ：「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」特集
日時：2005年9月26日(月) 13:00〜16:00、9月27日(火) 10:00〜16:40
場所：機械振興会館 地下3Ｆ 研修1号室
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第73回研究集会
ULSIデバイス研究委員会
テーマ：最先端CMOS技術（VLSIシンポジウム特集）
日時：2005年7月25日（月）9:50 - 17:30 （終了後，懇親会）
場所：東京大学生産技術研究所 An棟2階 コンベンションホール
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参加登録
第72回研究集会
リソグラフィー研究委員会
テーマ： NGLワークショップ2005 特集
日時： 2005年7月7日(木)、8日(金)
場所： 日本科学未来館、下記Webに詳細あり。
http://www.miraikan.jst.go.jp/
共催：日本学術振興会「荷電粒子ビームの工業への応用」第132委員会
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参加登録
第71回研究集会
ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
テーマ：「65 nmから45 nmノードlow-kエッチングの最前線」
―low-kエッチングプロセスにおける課題とそのソリューション―
日時：2005年6月22日（水）13:00〜17:50
場所：東京大学浅野キャンパスVDEC（武田先端知ビル）
５階武田ホール（千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車
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参加登録
第70回研究集会
表面・界面・シリコン研究委員会
テーマ：ゲート絶縁膜の現状と課題 〜 誘電率と界面 〜
日時：2005年6月9日（木）-10日（金）
場所：広島大学 東広島キャンパス学士会館２階ホール
共催：電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ）
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参加登録
シンポジウム
シリコンテクノロジー分科会
テーマ：来るべきナノCMOS時代に向けての挑戦とその課題
日時：4月27日（木）- 28日（金）
場所：早稲田大学 国際会議場 第3会議室
共催：IEEE EDS Japan Chapter, 電気学会調査専門委員会,
電子情報通信学会ESシリコン材料・デバイス研究専門委員会
第69回研究集会
多層配線システム委員会
テーマ：低誘電率層間膜、配線材料及び一般
日時：2005年1月31日（月）
場所：機械振興会館 6階 67号室 〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
共催：電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ）
第68回研究集会
表面・界面・シリコン研究委員会
テーマ：シリコンエピ，アニールウェーハの限界とそれを打破する欠陥制御，評価技術開発の挑戦
日時：2005年2月4日（金）
場所：学習院大学 南2号館200番教室（東京 豊島区目白）
第10回特別研究集会
薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会
テーマ：ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―
日時：1月28日（金）- 29日（土）
場所：東レ総合研修センター
第67回研究集会
ULSIデバイス研究委員会
テーマ：最先端CMOS技術（IEDM特集）
日時：2005年1月21日（金）
場所：日本大学理工学部船橋キャンパス