日時：2013年2月15日　13時より

場所：東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室
　　　（東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車）
　　　　研究集会終了後、懇親会を開催します。

担当：ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会

テーマ：「プラズマプロセスの最前線」

スコープ：今年度、プラズマ応用関連の国際学会であるAVS（米国真空学会）、
          GEC（電離気体国際会議）、DPS（ドライプロセスシンポジウム） 
          や主要なデバイス関連学会で活躍された研究者を中心に招待し、
          プロセステクノロジーとデバイステクノロジーの最新動向を
          有機的に議論する場を提供する。

（以下、敬称略）
■開会の辞 13:00-13:05

■若手研究者13:05-15:25（質疑込み35分）
京大　津田 博隆　     Siエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用のモデリングと
　　　　　　　　　　　形状進展シミュレーション
京大　松田 朝彦　　　 プラズマからのイオン照射ダメージと光学的評価手法
阪大　伊藤 智子	　　　プラズマエッチングにおけるナノメートル表面層反応機構の解明
名大　宮脇 雄大　     ガスデザインに基づいた高選択絶縁膜エッチング実現の検討

 （休憩15：25-15：35）

 ■特別講演■　15:35-16:20（質疑込み45分）
慶應義塾大 真壁 利明　マイクロセル、大気圧プラズマのシミュレーション

 ■先端プラズマ応用技術■　16：20-17：30（質疑込み35分）
東工大 野崎 智洋　　　シリコンインクおよび有機・無機ハイブリッド太陽電池の開発
ＴＥＬ 守屋 剛　　　　ドライエッチング装置　震災からの復興

（総合討論）

■閉会の辞 

会議終了後　懇親会