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| 会議名 |
「LSI配線における原子輸送・応力問題」研究会 |
| 沿革 |
本特別研究会は、正式名を「LSI配線における原子輸送・応力問題研究会」と称し、Si ULSIにおける多層配線技術での「信頼性」の向上を目的として、各種信頼性現象（エレクトロマイグレーション、ストレスインデュースドボイディングなど）の物理化学を議論し、配線プロセスの改善、新規プロセスの提案を目的として1994年に開始され、毎年7月に開催されている。またこの会議は原則1年半毎に米、欧、日で開催される国際ワークショップ「Workshop on Stress Induced Phanmana in Matallization」（1991年9月より開始）と連携しており、本ワークショップは国内では1997年、2007年にそれぞれ東京、京都で開催した。配線の信頼性現象は100nm以下の寸法の金属/絶縁膜構造での「薄膜、界面物性」に起因する物理現象そのものであり、本会議には企業でのLSI配線開発者は勿論、金属や絶縁膜物性、表面/界面物性、それらの評価手法に関した大学、公的研究機関などから多くの研究者が参画されている。 |
| 今年度開催予定 |
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| ウェブサイト |
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| その他 |
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