会議名

ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理
沿革 　1996年から、応用物理学会　薄膜・表面物理分科会の主催、同シリコンテクノロジー分科会の共催により、特別研究会「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」が毎年開催されている。第10回目に当たる2005年の研究会は、スコープをゲート絶縁膜から周辺のゲートスタックに拡大し、研究会名も「ゲートスタック研究会−材料・プロセス・評価の物理−」と改めて、新たにスタートした。
今年度開催予定  
ウェブサイト http://home.hiroshima-u.ac.jp/oxide/
その他