講演題目

原子・分子クラスターイオン技術の進展

要旨

クラスターイオンビーム技術は、１００余年続いたイオンビームの分野に、新たに参入した日本の独創技術です。クラスタービームの発生を問う研究からはじまり、すでに２０余年が経過しました。種々照射効果に関わる基礎技術の確立を経て、次世代電子、磁気、光学デバイスの製造に用いられ始めています。クラスターイオンビームの超低エネルギー照射効果、ラテラルスパッタ効果、高反応効果などの原理的特徴は、ナノ精度で量産を可能にする製造技術として注目を浴びています。本技術の背景、開発経過などを述べながら、従来技術には見られないプロセスの特長を概説し、実用化が進んでいる産業分野の動向を紹介します。