講演題目

C60クラスタービームの発生とその特性

要旨

イオンビームスパッタエッチングを用いた高分解能３次元表面分析においてイオンビームの微細化とソフト
スパッタリングの両立を可能にするという点でクラスタイオンビームの利用が有望視されている。本研究では，
表面分析の現場で利用可能な小型のC60クラスタイオン銃を開発することを目的とし，電子衝撃型のクラスタ
イオン源，回転電場型の質量フィルタ(Rotating Field Mass　Filter：RFMF)，およびそれらを動作させる制御コ
ントローラを新たに設計・製作し，特性評価を行った。