講演題目

金属錯体クラスターイオンビームの特性と表面分析への応用

要旨

近年、クラスターイオンを二次イオン質量分析（Secondary Ion Mass　Spectrometry, SIMS）における一次イオンビームとして用いることで高精度かつ高感度なSIMS分析が可能となることがわかり、Au3+ やC60+ などを用いた
“ Cluster SIMS ”が注目を集めている。産総研では、それらのイオンよりも分子量が大きい「金属クラスター錯体」という巨大分子を用いたクラスター・イオンビーム源を開発し、シリコンや有機薄膜のSIMS分析に応用し、その有用性を実証したので報告する。また、より一層巨大で多種多様なクラスターイオンのビーム化を可能とするため、現在、研究を進めている新しいタイプの“溶液型クラスターイオン源”に関しても、併せて報告する。