薄膜・表面物理分科会企画「省エネルギー社会のための半導体デバイス技術」 |
2009年9月8日 13:15〜17:15 |
8p-L- / 0 |
1 |
薄膜・表面物理分科会企画「省エネルギー社会のための半導体デバイス技術」(10分) |
中部大超伝導1,早大理工2
○河原敏男1,渡邉孝信2 |
2 |
超低消費電力シリコンデバイス技術の重要性(25分) |
東工大フロンティア
○岩井 洋 |
3 |
ナノスケールデバイスの熱問題: 極微細MOSFETにおける発熱の微視的過程と電気伝導への影響(25分) |
阪大院工1,早大理工2
○鎌倉良成1,図師知文2,渡邉孝信2,森 伸也1,谷口研二1 |
4 |
IGBTの低損失化と省エネルギー(25分) |
日立日立研
○森 睦宏 |
5 |
SiCデバイスとエピタキシー技術(25分) |
(独) 産総研
○児島一聡 |
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休 憩 15:05〜15:25 |
6 |
温度無依存バンドギャップ半導体TlInGaAsNの成長と半導体レーザへの応用(25分) |
阪大産研
○長谷川繁彦,朝日 一 |
7 |
電子デバイス冷却と熱電効果ー自己冷却素子を中心にして(25分) |
中部大超伝導1,横浜国大工2,防衛大工3
○山口作太郎1,中津川博2,岡本庸一3 |
8 |
アモルファス・微結晶シリコン太陽電池(25分) |
産総研
○増田 淳 |
9 |
化合物半導体太陽電池(25分) |
豊田工大
○山口真史 |
10 |
クロージングトーク(10分) |
早大理工
○渡邉孝信 |
薄膜・表面物理分科会企画
「金属酸化物系材料の新展開-メカニズムの解明からデバイス応用まで-」 |
2009年9月10日 13:45〜18:15 |
10p-G- / 0 |
1 |
金属酸化物系材料の新展開(15分) |
物材機構
○青野正和 |
2 |
イオン移動を利用した不定比性キャリア変調とスイッチング現象(30分) |
東大工
○山口 周,土屋敬志,三好正悟,佐々木直敬,尾山由紀子 |
3 |
界面制御による酸化物量子物性の発現(30分) |
東北大WPI材料機構1,東北大金研2,CREST-JST3
○川崎雅司1, 2, 3 |
4 |
鉄系新超伝導体の進展(30分) |
東工大フロンティア研1,応セラ研2
○細野秀雄1,2 |
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休 憩 15:30〜15:45
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5 |
酸化物中における電子・イオンの微視的挙動:第一原理計算によるアプローチ(30分) |
東大工
○渡邉 聡,谷 廷坤,笠松秀輔,多田朋史 |
6 |
酸化還元型 電気化学抵抗変化メモリ素子ReRAM 〜もう 原理は”不明”ではない!〜(30分) |
産総研ナノ電子デバイス
○秋永広幸,島 久 |
7 |
電気化学抵抗変化素子(イオン注入型)(25分) |
物材機構
○長谷川剛,寺部一弥,鶴岡 徹,南風盛将光,知京豊裕,青野正和 |
8 |
光機能センサー素子への応用(25分) |
阪大理1,物材機構MANA2
○田中啓文1,日野貴美1,長谷川剛2,伊藤弥生美2,青野正和2,小川琢治1 |
9 |
原子スイッチのCu配線中への形成(30分) |
NEC1,NIMS2
○阪本利司1,多田宗弘1,伴野直樹1,辻 幸秀1,斉藤幸重1,矢部裕子1,波田博光1,井口憲幸1,青野正和2 |
10 |
Closing :金属酸化物系材料の新展開(10分) |
物材研
○知京豊裕 |