応用物理学会応用電子物性分科会主催

「自己制御された表面薄膜プロセス」研究会　

日　時：平成９年９月２４日（水）　　13：30〜17：00

場　所：大阪大学産業科学研究所　講義室

　　　　〒５６７　大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1

　　　（阪急電鉄・北千里駅下車　徒歩20分、または、

　　　　地下鉄北大阪急行・千里中央駅から阪急バスで阪大本部前下車徒歩10分、

　　　　または、ＪＲ茨木駅から近鉄バスで阪大本部前下車徒歩10分）

演　題：

　（1）シリコン（１１３）面における自己組織的マルチステップ形成過程の研究

　　　　阪大産研　　須藤孝一、吉信達夫、岩崎　裕

　（2）UHV-STMを用いたナノスケール選択成長によるGaAsドット形成

　　　　ＮＴＴ基礎研究所　　嘉数誠、牧本俊樹、小林直樹

　（3）Self-assembling quantum dots for laser diodes and single elctron devices

　Max-Planck Institute, Stuttgart Karl Eberl

参加費：無料（事前申し込み不要）

問い合せ先：朝日　一　大阪大学産業科学研究所（TEL 06-879-8407）　

　　　　　　岩崎　裕　大阪大学産業科学研究所（TEL 06-879-8400）

　　　　　　河村裕一　大阪府立大学先端科学研究所（TEL0722-52-1161 ext 3573）