応用電子物性分科会研究例会

酸化物薄膜／厚膜の作製とデバイス応用
―MEMSから光・磁気デバイスまで―

主催：

　応用物理学会応用電子物性分科会

日時：

　2003年6月6日（金）13：00〜17:00

場所：

　機械振興会館　6階　66号室
（東京都港区芝公園３−５−８　TEL:03-3434-8211）

内容：

1. ピエゾ素子を用いたインクジェットヘッドの最新動向　
   • 13:00〜13:40　　 細野聡　（セイコーエプソン）
2. エアロゾルデポジション法による圧電厚膜の形成とMEMSデバイスへの応用
   • 13:40〜14:20　　明渡純（産総研）
3. 圧電体薄膜の作製、特性とMEMSへの応用
   • 14:20〜15:00　　真岩宏司（湘南工大工学部）
4. 総会
   • 15:00〜15:20
5. 高感度薄膜焦電型赤外線センサとその応用展開
   • 15:20〜16:00　　野村幸治（松下電子部品開発技術センター）
6. 外場応答機能をもつ酸化物薄膜
   • 16:00〜16:40　　川合知ニ（阪大産研）

講演時間：

　講演40分　：　質疑応答を含む

参加費：

　当日受付(テキスト代・消費税込み)

　応用電子物性分科会会員：無料、一般：3,000円、学生：1,000円

問合せ先：

坂口　春典（日立電線）　E-mail: tengew_at_arc.hitachi-cable.co.jp

須原　理彦（都立大）　　E-mail: suhara_at_eei.metro-u.ac.jp