半導体・磁性エレクトロニクスおよび光エレクトロニクス分野において、微細加工技術は不可欠なプロセス技術である。しかも微細化への要求は年々高まり、１０年後にはナノメートル加工（ナノ加工）が技術の中心になることが予測される。本研究例会では、ナノ加工技術の現状と展望を様々な材料系および手法を対象として議論することを目的としている。
開催日時：2008年7月4日（金）13：00〜16：40
場所：機械振興会館 6階66会議室 (定員90名)
東京都港区芝公園３−５−８
都営地下鉄三田線御成門駅下車 徒歩8分(地図)
演題：
(1) 13:05〜13:45 「近接場光リソグラフィによるナノ構造光学素子作製」
川添 忠、大津元一 （東京大学）
(2) 13:45〜14:25 「ナノインプリント技術の最新動向とデバイス応用」
松井真二 （兵庫県立大）
(3) 14:25〜15:05 「プローブ顕微鏡を用いたナノクラフトテクノロジー」
岩田太 （静岡大）
休憩 15:05〜15:20
(4) 15:20〜16:00 「革新的ナノデバイス実現のための中性粒子ビーム加工技術」
寒川誠二 （東北大）
(5) 16:00〜16:40 「極微細加工技術が支える集積・超高速光信号処理ナノフォトニクス
」
杉本喜正、池田直樹（物材機構）、尾崎信彦、渡辺慶規、浅川潔
（筑波大学TARAセンター）
参加費:当日受付(テキスト代、消費税込)（事前受付はありません）
応電分科会会員無料、応物会員(非分科会会員)3,000円、一般4,000円、学生1,000円
問合せ先：「応用電子物性分科会」(以下で*の部分は半角＠に置き換えてください）
高橋琢二 (東大) takuji*iis.u-tokyo.ac.jp
徳光永輔（東工大） tokumitu*neuro.pi.titech.ac.jp
小出康夫（物材機構） koide.yasuo*nims.go.jp