プラズマエレクトロニクス賞 (Plasma Electronics Award)　受賞者の紹介（2003年〜）

 第22回（2023年度）

論文 ［1］	受賞者	久保井信行、松谷弘康、辰巳哲也、小林正治、萩本賢哉、岩元勇人（ソニーセミコンダクタソリューションズ）
	論文名	Modeling and simulation of coverage and film properties in deposition process on large-scale pattern using statistical ensemble method
	雑誌名	Jpn. J. Appl. Phys. 62, Sl1006 (2023).
	著者名	Nobuyuki Kuboi, Hiroyasu Matsugai, Tetsuya Tatsumi, Shoji Kobayashi, Yoshiya Hagimoto, and Hayato Iwamoto
論文 ［2］	受賞者	内田儀一郎（名城大）、益本幸泰（名城大）、榊原幹人（名城大）、池邉由美子（名城大）、小野晋次郎（九州大）、古閑一憲（九州大）、小澤隆弘（大阪大）
	論文名	Single-step fabrication of fibrous Si/Sn composite nanowire anodes by high-pressure He plasma sputtering for high-capacity Li-ion batteries
	雑誌名	Sci. Rep. 13, 14280 (2023).
	著者名	Giichiro Uchida, Kodai Masumoto, Mikito Sakakibara, Yumiko Ikebe, Shinjiro Ono, Kazunori Koga, Takahiro Kozawa

  

 第21回（2022年度）

論文 ［1］	受賞者	小池健、宗岡均、寺嶋和夫、伊藤剛仁（東京大学）
	論文名	Electric-Field-Induced Coherent Anti-Stokes Raman Scattering of Hydrogen Molecules in Visible Region for Sensitive Field Measurement
	雑誌名	Physical Review Letters 129, 033202 (2022).
	著者名	Takeru Koike, Hitoshi Muneoka, Kazuo Terashima, and Tsuyohito Ito
論文 ［2］	受賞者	市川景太（名古屋大学），Manh Hung Chu（日本エアリキード），森山誠（キオクシア），鈴木陽香（名古屋大学），飯野大輝（キオクシア），福水裕之（キオクシア），栗原一彰（キオクシア），豊田浩孝（名古屋大学）
	論文名	Angular Distribution Measurement of High-Energy Argon Neutral and Ion in A 13.56 MHz Capacitively-Coupled Plasma
	雑誌名	Applied Physics Express 14, 126001 (2021).
	著者名	Keita Ichikawa, Manh Hung Chu, Makoto Moriyama, Naoya Nakahara, Haruka Suzuki, Daiki Iino, Hiroyuki Fukumizu, Kazuaki Kurihara, and Hirotaka Toyoda

  

 第20回（2021年度）

論文 ［1］	受賞者	大西 広（レーザーテック株式会社）、山崎 文徳（三菱電機株式会社）、 箱崎 喜郎（東芝エネルギーシステム株式会社）、 竹村 将沙樹、根津 篤、赤塚 洋（東京工業大学）
	論文名	Measurement of electron temperature and density of atmospheric-pressure non-equilibrium argon plasma examined with optical emission spectroscopy
	雑誌名	Japanese Journal of Applied Physics 60, 026002 (2021)
	著者名	Hiroshi Onishi, Fuminori Yamazaki, Yoshiro Hakozaki, Masaki Takemura, Atsushi Nezu, and Hiroshi Akatsuka
論文 ［2］	受賞者	佐々木 渉太、高島 圭介、金子 俊郎（東北大学）
	論文名	Portable Plasma Device for Electric N2O5 Production from Air
	雑誌名	Industrial & Engineering Chemistry Research 60, 798-801 (2021)
	著者名	Shota Sasaki, Keisuke Takashima, and Toshiro Kaneko

  

 第19回（2020年度）

論文 ［1］	受賞者	金 載浩、板垣 宏知、榊田 創（産業技術総合研究所）
	論文名	Low-Temperature Graphene Growth by Forced Convection of Plasma-Excited Radicals
	雑誌名	Nano Letters 19, 739 (2019)
	著者名	Jaeho Kim, Hajime Sakakita, and Hiromoto Itagaki
論文 ［2］	受賞者	佐藤 好弘、柴田 聡（パナソニック株式会社）、占部 継一郎、江利口 浩二（京都大学）
	論文名	Evaluation of residual defects created by plasma exposure of Si substrates using vertical and lateral pn junctions
	雑誌名	Journal of Vacuum Science and Technology B38, 012205 (2020)
	著者名	Yoshihiro Sato, Satoshi Shibata, Keiichiro Urabe, and Koji Eriguchi

  

 第18回（2019年度）

論文 ［1］	受賞者	久保井信行（ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社）、辰巳哲也（ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社）、小町 潤、山川真弥（ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社）
	論文名	Insights into different etching properties of continuous wave and atomic layer etching processes for SiO2 and Si3N4 films using voxel-slab mode
	雑誌名	Journal of Vacuum Science & Technology A 37, 051004 (2019)
	著者名	Nobuyuki Kuboi, Tetsuya Tatsumi, Jun Komachi, and Shinya Yamakawa
論文 ［2］	受賞者	大村光広（キオクシア株式会社）、橋本惇一（キオクシア株式会社）、足立昂拓（キオクシア株式会社）、近藤祐介（キオクシア株式会社）、石川勝朗（キオクシア株式会社）、阿部淳子（キオクシア株式会社）、酒井伊都子（キオクシア株式会社）、林 久貴（キオクシア株式会社）、関根 誠（名古屋大学）、堀 勝（名古屋大学）
	論文名	Formation mechanism of sidewall striation in high-aspect-ratio hole etching
	雑誌名	Japanese Journal of Applied Physics 58, SEEB02 (2019)
	著者名	itsuhiro Omura, Junichi Hashimoto, Takahiro Adachi, Yusuke Kondo, Masao Ishikawa, Junko Abe, Itsuko Sakai, Hisataka Hayashi, Makoto Sekine, and Masaru Hori

 

 第17回（2018年度）

論文 ［1］	受賞者	布村 正太（産業技術総合研究所）、坂田 功（産業技術総合研究所）、松原 浩司（産業技術総合研究所）
	論文名	Plasma-Induced Electronic Defects: Generation and Annihilation Kinetics in Hydrogenated Amorphous Silicon
	雑誌名	Physical Review Applied, 10, 054006 (2018)
	著者名	Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
論文 ［2］	受賞者	大村 光広（東芝メモリ(株)）、古本 一仁（東芝メモリ(株)）、松田 和久（東芝メモリ(株)）、佐々木 俊行（東芝メモリ(株)）、酒井 伊都子（東芝メモリ(株)）、林 久貴（東芝メモリ(株)）
	論文名	Layer-by-layer etching of LaAlSiOx
	雑誌名	Plasma Sources Science and Technology, 26, 065015 (2017)
	著者名	Mitsuhiro Omura, Kazuhito Furumoto, Kazuhisa Matsuda, Toshiyuki Sasaki, Itsuko Sakai and Hisataka Hayashi

 

 第16回（2017年度）

論文 ［1］	受賞者	西山 修輔（北海道大学）、中野 治久（核融合科学研究所）、後藤 基志（核融合科学研究所）、佐々木 浩一（北海道大学）
	論文名	Stark spectroscopy at Balmer-α line of atomic hydrogen for measuring sheath electric field in a hydrogen plasma
	雑誌名	Journal of Physics D: Applied Physics, 50, 234003 (2017)
	著者名	Shusuke Nishiyama, Haruhisa Nakano, Motoshi Goto, and Koichi Sasaki
論文 ［2］	受賞者	富田 健太郎（九州大学）、佐藤 祐太（九州大学）、築山 晶一（九州大学）、江口 寿明（九州大学）、内野 喜一郎（九州大学）、神家 幸一郎（ギガフォトン株式会社）、戸室 啓明（ギガフォトン株式会社）、溝口 計（ギガフォトン株式会社）、砂原 淳（Purdue 大学）、西原 功修（大阪大学）
	論文名	Time-resolved two-dimensional profiles of electron density and temperature of laser-produced tin plasmas for extreme-ultraviolet lithography light sources
	雑誌名	Scientific Reports, 7, 12328 (2017)
	著者名	Kentaro Tomita, Yuta Sato, Syouichi Tsukiyama, Toshiaki Eguchi, Kiichiro Uchino, Kouichiro Kouge, Hiroaki Tomuro, Tatsuya Yanagida, Yasunori Wada, Masahito Kunishima, Georg Soumagne, Takeshi Kodama, Hakaru Mizoguchi, Atsushi Sunahara, and Katsunobu Nishihara

 

第15回（2016年度）

論文 ［1］	受賞者	兒玉 直人（金沢大学）、田中 康規（金沢大学）、北 健太郎（中部電力）、上杉 喜彦（金沢大学）、石島 達夫（金沢大学）、渡邊 周（日清製粉グループ本社）、中村 圭太郎（日清製粉グループ本社）
	論文名	A method for large-scale synthesis of Al-doped TiO2 nanopowder using pulse-modulated induction thermal plasmas with time-controlled feedstock feeding
	雑誌名	Journal of Physics D: Appl. Phys., 47,195304 (2014)
	著者名	Naoto Kodama, Yasunori Tanaka,Kentaro Kita, Yoshihiko Uesugi,Tatsuo Ishijima, Shu Watanabe and Keitaro Nakamura
論文 ［2］	受賞者	佐々木 渉太（東北大学）、神崎 展（東北大学）、金子 俊郎（東北大学）
	論文名	Calcium influx through TRP channels induced by short-lived reactive species in plasma-irradiated solution
	雑誌名	Scientific Reports, 6, 25728 (2016)
	著者名	Shota Sasaki, Makoto Kanzaki and Toshiro Kaneko

 第14回（2015年度）

論文 ［1］	受賞者	板垣 奈穂 (九州大学)、松島 宏一 (九州大学)、山下 大輔 (九州大学)、徐 鉉雄 (九州大学)、古閑 一憲 (九州大学)、白谷 正治 (九州大学)
	論文名	Synthesis and Characterization of ZnInON Semiconductor: a ZnO-based Compound with Tunable Band Gap
	雑誌名	Materials Research Express 1, 036405 (2014)
	著者名	Naho Itagaki, Koichi Matsushima, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Kazunori Koga, and Masaharu Shiratani
論文 ［2］	受賞者	亀島 晟吾 (東京工業大学)、田村 奎志朗 (東京工業大学)、石橋 裕太郎（日清製粉(株)）、野崎 智洋 (東京工業大学)
	論文名	Pulsed dry methane reforming in plasma-enhanced catalytic reaction
	雑誌名	Catalysis Today, 256, 67 (2015)
	著者名	Seigo Kameshima, Keishiro Tamura, Yutaro Ishibashi, and Tomohiro Nozaki

 

第13回（2014年度）

論文 ［1］	受賞者	本間 啓一郎（本田技研工業），神原 淳（東京大学）
	論文名	High throughput production of nanocomposite SiO2 powders by plasma spray physical vapor deposition for negative electrode of lithium ion batteries
	雑誌名	Sci. Technol. Adv. Mater., 15, 025006 (2014)
	著者名	Keiichiro Homma, Makoto Kambara and Toyonobu Yoshida
論文 ［2］	受賞者	久保井 信行（ソニー（株）），辰巳 哲也（ソニー（株）），深沢 正永（ソニー（株）），木下 隆（ソニー（株）），小町 潤（ソニー（株）），安齋 久浩（ソニー（株））
	論文名	Effect of open area ratio and pattern structure on fluctuations in critical dimension and Si recess
	雑誌名	J. Vac. Sci. Technol., A31, 061304 (2013)
	著者名	Nobuyuki Kuboi, Tetsuya Tatsumi, Masanaga Fukasawa, Takashi Kinoshita, Jun Komachi, Hisahiro Ansai and Hiroyuki Miwa

 

第12回（2013年度）

論文 ［1］	受賞者	加藤俊顕（東北大学），畠山力三（東北大学）
	論文名	Site- and alignment-controlled growth of graphene nanoribbons from nickel nanobars
	雑誌名	Nature Nanotechnol. 7, 651 (2012)
	著者名	T. Kato and R. Hatakeyama
論文 ［2］	受賞者	久保井信行（ソニー（株）），辰巳哲也（ソニー（株）），小林正治（ソニー（株）），木下隆（ソニー（株）），小町潤（ソニー（株）），深沢正永（ソニー（株）），安斎久浩（ソニー（株））
	論文名	Modeling and simulation of plasmainduced damage distribution during hole etching of SiO2 over Si substrate by fluorocarbon plasma
	雑誌名	Appl. Phys. Express, 5, 126201 (2012)
	著者名	N. Kuboi, T. Tatsumi, S. Kobayashi, T. Kinoshita, J. Komachi, M. Fukasawa and H. Ansai

 

第11回（2012年度）

論文 ［1］	受賞者	石川 健治(名古屋大学)，鷲見直也(東邦ガス)，河野 昭彦(金沢工業大学)，堀邊 英夫(金沢工業大学)，竹田 圭吾(名古屋大学)，近藤 博基(名古屋大学)，関根 誠(名古屋大学)，堀 勝(名古屋大学)
	論文名	Synergistic Formation of Radicals by Irradiation with both Vacuum Ultraviolet and Atomic Hydrogen: a Real-time in situ Electron Spin Resonance Study
	雑誌名	J. Phys. Chem. Lett. 2, 1278-1281 (2011)
	著者名	Kenji Ishikawa, Naoya Sumi, Akihiko Kono, Hideo Horibe, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Makoto Sekine, and Masaru Hori
論文 ［2］	受賞者	伊藤 智子(大阪大学)，唐橋 一浩(大阪大学)，深沢 正永(ソニー(株))，辰巳 哲也(ソニー(株))，浜口 智志(大阪大学)
	論文名	Si Recess of Polycrystalline Silicon Gate Etching: Damage Enhanced by Ion Assisted Oxygen Diffusion
	雑誌名	Jpn. J. Appl. Phys. 50, 08KD02 (5pp) (2011)
	著者名	Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Masanaga Fukasawa, Tetsuya Tatsumi, and Satoshi Hamaguchi

 

第10回（2011年度）

論文	受賞者	趙　穎 （河南農業大学、中国），荻野　明久 （静岡大学），永津　雅章 （静岡大学）
	論文名	Effects of N2-O2 Gas Mixture Ratio on Microorganism Inactivation in Low-　Pressure Surface Wave Plasma
	雑誌名	Japanese Journal of Applied Physics 50 (2011) 08JF05
	著者名	Ying Zhao, Akihisa Ogino, and Masaaki Nagatsu

 

 

第９回（2010年度）

論文 ［1］	受賞者	仲村恵右（三菱電機），濱田大輔(P&Gジャパン)，上田義法(川崎重工)，江利口浩二（京都大学），斧高一（京都大学）
	論文名	Selective Etching of High-k Dielectric HfO2 Films over Si in BCl3-Containing Plasmas without rf Biasing
	雑誌名	Applied Physics Express 2, 016503 (2009)
	著者名	K. Nakamura, D. Hamada, Y. Ueda, K. Eriguchi and K. Ono
論文 ［2］	受賞者	内田儀一郎（九州大学），内田諭（首都大学東京），秋山利幸（次世代PDP開発センター）， 梶山博司（広島大学），篠田傳(広島大学)
	論文名	Effect of high Xe-concentration in a plasma display panel with a SrCaO cold cathode
	雑誌名	Journal of Applied Physics 107, 103311 (2010)
	著者名	G. Uchida, S. Uchida, T. Akiyama, H. Kajiyama and T. Shinoda

 

第８回（2009年度）

論文	受賞者	陣内佛霖（東北大学），折田敏幸（OKIセミコンダクタ宮城），橋本潤（東京エレクトロン技術研究所）， 市橋由成（三洋電機），大竹浩人（東北大学），寒川誠二（東北大学）
	論文名	On-wafer monitoring of charge accumulation and sidewall conductivity in high-aspect-ratio contact holes during SiO2 etching process
	雑誌名	Journal of Vacuum Science and Technology, Vol. B25, No. 6, (2007) pp. 1808-1813
	著者名	B. Jinnai, T. Orita, M. Konishi, J. Hashimoto, Y. Ichihashi, A. Nishitani, S. Kadomura,, H. Ohtake, S. Samukawa

 

第７回（2008年度）

論文 ［1］	受賞者	畠山力三(東北大学)，金子俊郎(東北大学)，李永峰(東北大学)，加藤俊顕(東北大学)，馬場和彦(東北大学)，岡田健(東北大学)
	論文名	Single-stranded DNA insertion into single-walled carbon nanotube by ion irradiation in an electrolyte plasma
	雑誌名	Japanese Journal of Applied Physics, 45 (2006) 8335-8339.
	著者名	T. Okada, T. Kaneko, R. Hatakeyama
論文 ［2］	論文名	Novel-structured carbon nanotubes creation by nanoscopic plasma control
	雑誌名	Plasma Sources Science and Technology 17 (2008) 024009 (11 pages)
	著者名	R. Hatakeyama, T. Kaneko, W. Oohara, Y. F. Li, T. Kato, K. Baba, J. Shishido

第６回（2007年度）

論文	受賞者	寺嶋和夫(東京大学)，笘居高明(東京大学)，片平研(東京大学)，久保宏丈(東京大学)，清水禎樹(産業技術総合研究所)，佐々木毅(産業技術総合研究所)，越崎直人(産業技術総合研究所)
	論文名	Carbon materials syntheses using dielectric barrier discharge microplasma in supercritical carbon dioxide environments
	雑誌名	The Journal of Supercritical Fluids 41 (2007) 404-411.
	著者名	Takaaki Tomai, Ken Katahira, Hirotake Kubo, Yoshiki Shimizu, Takeshi Sasaki, Naoto Koshizaki, Kazuo Terashima

第５回（2006年度）

論文	受賞者	宗宮暁（名古屋大学）, 豊田浩孝（名古屋大学）, 堀田芳彦（名古屋大学）, 菅井秀郎（名古屋大学, 現　中部大学）
	論文名	Suppression of oxygen impurity incorporation into silicon films prepared from surface-wave excited H2/SiH4 plasma
	雑誌名	Japanese Journal of Applied Physics, 43 (2004) 7696-7700.
	著者名	S. Somiya, H. Toyoda, Y. Hotta, H. Sugai

第４回（2005年度）

論文	受賞者	酒井　道（京都大学），坂口拓生（京都大学），伊藤陽介（京都大学），橘　邦英（京都大学）
	論文名	Interaction and control of millimeter-waves with microplasma arrays
	雑誌名	Plasma Physics and Controlled Fusion, Vol. 47 (2005) B617-B627.
	著者名	O.Sakai, T. Sakaguchi, Y. Ito and K. Tachibana

第３回（2004年度）

論文 ［1］	受賞者	古閑一憲（九州大学），甲斐幹英（三洋電機），白谷正治（九州大学），渡辺征夫（九州大学），鹿谷昇（福岡工業大学）
	論文名	Cluster-suppressed plasma chemical vapor deposition metbod for high quality hydrogenated amorphous silicon films
	雑誌名	Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 41(2002) pp.L168-L170 (Express Letters)
	著者名	Kazunori Koga, Motohide Kai, Masaharu Shiratani, Yukio Watanabe (Kyushu University); Noboru Shikatani (Fukuoka Institute of Technology)
論文 ［2］	受賞者	八木澤卓（慶應義塾大学），前重和伸（旭硝子），島田卓（慶應義塾大学），真壁利明（慶應義塾大学）
	論文名	Prediction of radial variation of plasma structure and ion distribution in the wafer interface in two-frequency capacitively coupled plasma
	雑誌名	IEEE Transaction on Plasma Science Vo1. 32(2004) pp.90-100 (Invited Review Paper)
	著者名	Takashi Yagisawa, Kazunobu Maeshige,Takashi Shimada and Toshiaki Makabe (Keio University)

第２回（2003年度）

論文 ［1］	受賞者	山田浩文（東洋大学），岡本幸雄（東洋大学）
	論文名	Characteristics of a high-power microwave-induced helium plasma at atmospheric pressure for the determination of nonmetals in aqueous solution
	雑誌名	Applied Spectroscopy, Vol. 55, No. 2, pp. 114-119 (2001)
	著者名	Hirofumi Yamada and Yukio Okamoto (Toyo University)
論文 ［2］	受賞者	小松正二郎（物質研究所）．倉嶋敬次（物質研究所）．岡田勝行（物質研究所）．三友護（物質研究所）．守吉佑介（法政大学）．清水禎樹（産業技術総合研究所）．白谷正治（九州大学）．中野俊樹（防衛大学）．寒川誠二（東北大学）
	論文名	Highly crystalline 5H-polytype of sp3-bonded boron nitride prepared by plasma-packets-assisted pulsed-laser depositon: An ultraviolet light emitter at 225 nm
	雑誌名	Applied Physics Letters, Vol. 81, No. 24, pp. 4547-4549 (2002)
	著者名	Shojiro Komatsu, Keiji Kurashima, Hisao Kanda, Katsuyuki Okada, and Mamoru Mitomo (National Institute for Material Science); Yusuke Moriyoshi (Hosei University); Yoshiki Shimizu (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology); Masaharu Shiratani (Kyushu University); Toshiki Nakano(National Defense Academy); Seiji Samukawa (Tohoku University)

第１回（2002年度）

論文	受賞者	高島成剛（日本レーザ電子），堀勝（名古屋大学），後藤俊夫（名古屋大学），河野明廣（名古屋大学），米田勝實（日本レーザ電子），多田重和（ITXイー・グローバレッジ），伊藤昌文（和歌山大学），浜垣学（理化学研究所）
	論文名1	Absolute concentration and loss kinetics of hydrogen atom in methane and hydrogen plasmas
	雑誌名1	Journal of Applied Physics, Vol. 90, No. 11, pp. 5497-5503 (2001)
	著者名1	Seigou Takashima, Masaru Hori, Toshio Goto, Akihiro Kono, Katsumi Yoneda (Nagoya University); Katsumi Yoneda (Nippon Laser & Electronics LAB.)
	論文名2	Investigation of nitrogen atoms in low-pressure nitrogen plasmas using a compact electron-beam-excited plasma source
	雑誌名2	Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 41, No. 7(A), pp. 4691-4695 (2002)
	著者名2	Shigekazu Tada, Seigou Takashima (Nagoya University); Masafumi Ito (Wakayama University); Manabu Hamagaki (RIKEN); Masaru Hori, Toshio Goto (Nagoya University)