お知らせ
  ・2017年度分科会幹事選挙結果が出ましたのでお知らせします。  投票結果はこちら
   ・横断的研究集会の募集
  ・SDRJ (System Device Roadmap committee of Japan)委員会が正式に活動を開始致しました。 詳しくはこちら
*** What's New ***
  ・SDRJ (System Device Roadmap committee of Japan) Committee started a formal activity. detail


研究集会、特別研究会
  ・研究集会へ参加頂くためにはこちらをご覧下さい(継続参加受付中

(2017年2月13日更新)

第200回 研究集会
       日時: 2017年3月1日(水) 13:30-17:30 (受付: 12:30〜) 
       場所: 学習院大学 南7号館101教室
          〒171-8588東京都豊島区目白1-5-1(JR山手線「目白駅」下車徒歩1分) 
	       http://www.gakushuin.ac.jp/univ/etc/access.html
            
       テーマ: シリコン結晶中の微量不純物およびキャリア寿命評価に関する新展開
        詳細


第199回 研究集会
       日時: 2017年2月17日(金) 13:00-17:30
       場所: 東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室
          (東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
	       http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_10_j.html
            
       テーマ: 微細加工プロセスの最前線
        詳細



第198回 研究集会
       日時: 2017年2月6日(月) 10:05-16:45
       場所: 東京大学/本郷/工学部4号館/3階42教室
	       http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_05_j.html
              本郷アクセスマップ
                 http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/map01_02_j.html
       テーマ: 配線・実装技術と関連材料技術
        詳細


第197回 研究集会
       日時: 2017年1月30日(月) 10:00-16:30
       場所: 機械振興会館地下3階研修1号室
                  〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
                   東京メトロ日比谷線 神谷町駅下車 徒歩8分
	       http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/access.html
       テーマ: 先端CMOSデバイス・プロセス技術
        詳細



システムデバイスロードマップ委員会(SDRJ)設立と活動概要説明会(要事前申込)
   日時:2016 年11月14日(月)18:00 - 19:00
   場所:株式会社荏原製作所 羽田本社 1 階 大会議室、*Web-Ex 会議併用
   〒144-8510 東京都大田区羽田旭町11-1
    地図のURL 等  http://www.ebara.co.jp/company/office/haneda.html
   問い合わせ先:SDRJ委員長・林喜宏<ルネサス>
      詳細(要事前申込)


第196回 研究集会
	日時: 2016年11月14日(月) 13:00-17:00
       場所: 産業技術総合研究所 つくば中央第二
                   2-1D棟 8階 大会議室
              (2-1棟1階受付にお立ち寄りください。)
	           (〒305-8568 茨城県つくば市梅園1−1−1)
	 http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html

	
       オーガナイザー: 遠藤和彦 <産総研>、寒川誠二 <東北大学>
       テーマ: 熱電変換材料開発とデバイス応用の最前線
        詳細



第195回 研究集会
	日時: 2016年11月10日(木) 10:00-16:40
             2016年11月11日(金) 10:00-16:30
	場所: 機械振興会館 6F 6-66会議室
	        (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
	 http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
	
       オーガナイザー: 国清辰也 <ルネサスエレクトロニクス_SDM>, 廣木 彰 <京都工芸繊維大学>
       担当:  宇野 重康 <立命館大学>, 林洋一 <ラピスセミコンダクター>
       テーマ: プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
        詳細



第194回 研究集会「2016 VLSIシンポジウム」特集
	日時: 2016年8月23日(火) 10:00-16:00 
	場所: 甲南大学ネットワークキャンパス東京 講義室
	        (〒100-0005 東京都千代田区丸の内1丁目7-12 サピアタワー10F 
                 TEL:03-6266-9520 FAX:03-6266-9522)
	 http://www.konan-u.ac.jp/tokyo/access/index.html
	
       会場担当:  寺内 衛 <甲南大学>
       テーマ: 先端デバイスプロセス技術(2016 VLSI Symposium特集)
        詳細

第193回 研究集会
	日時: 2016年7月29日(金) 10:00-17:00 
	場所: 機械振興会館 B3 研修B3-2号室
	        (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
	 http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
	
       オーガナイザー:廣木 彰 <京都工芸繊維大学>
       担当:  宇野 重康 <立命館大学>, 林洋一 <ラピスセミコンダクター>
       テーマ: 半導体モデリング技術の新展開
        詳細

第192回 研究集会
	日時: 2016年6月29日(水) 10:00-17:20 
	場所: キャンパス・イノベーションセンター東京
	(〒108-0023 東京都港区芝浦3−3−6)
	 http://www.cictokyo.jp/access.html
	
	テーマ: ゲートスタック技術の進展ー強誘電体薄膜とカルコゲナイド系層状物質を中心に
        詳細


第191回 研究集会
	日時: 2016年2月27日(土) 13:00-17:30 
	場所: 大阪梅田、宝塚大学梅田キャンパス
	(大阪府大阪市北区芝田1丁目13-16)
	 http://www.takara-univ.ac.jp/access/#title03
	オーガナイザー: 中島良樹(日新イオン), 伊藤裕之(AMAT), 山口直(ルネサス), 柴田聡(パナソニック)
	テーマ: 接合技術の新展開
        詳細


第190回 研究集会
	日時: 2016年2月26日(金) 13:00-18:00 
	場所: 学習院大学 中央棟301教室 《交通》JR目白駅より徒歩1分	
	担当: 太子敏則(信州大), 泉妻宏治(グローバルウェーハズ・ジャパン)
	テーマ: Si結晶成長・プロセスに関わるシミュレーション
        詳細


第189回 研究集会
	日時: 2016年2月19日(木) 13:00-17:00 
	場所: 東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室
	(東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
	 http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_10_j.html
	担当: 一木隆範 <東京大学大学院工学系研究科>
	テーマ: 微細加工プロセスの最前線
        詳細



第188回 研究集会
	日時: 2016年1月28日(木) 10:00-16:50 
	場所: 機械振興会館(東京都港区芝公園3-5-8) 6-66会議室
	(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
	 http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
	会場担当: 寺内 衛 <甲南大学>
	テーマ: 先端デバイスプロセス技術(IEDM 2015特集)
        詳細


第187回 研究集会
	日時 :平成27年1月22日(金)10時〜17時
	場所 :東京大学山上会館
	(〒113-8654 文京区本郷7-3-1)
	http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/map01_02_j.html
	オーガナイザー:近藤英一 (山梨大学)
        詳細



 第186回 研究集会
	日時 :2015年11月13日(金) 13:00-17:50
	場所 :産総研 つくば中央 本部情報棟ネットワーク会議室
	(〒305-8560 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第1 つくば本部・情報技術共同研究棟)
	http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html
	オーガナイザー:寒川誠二(東北大)、水林亘(産総研)、遠藤和彦(産総研)
        詳細


第185回 研究集会
        日時: 2015年11月5日(木) 10:00-15:20
           2015年11月6日(金) 11:00-15:20
        場所: 機械振興会館 6F 67号室
(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
    http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
オーガナイザー:国清辰也 <ルネサスエレクトロニクス_SDM>, 廣木 彰 <京都工芸繊維大学>
         担当 : 宇野 重康 <立命館大学>, 林 洋一 <ラピスセミコンダクタ>
        詳細

第184回 研究集会
        日時: 2015年8月17日(月) 10:00-16:50 
        場所: 甲南大学ネットワークキャンパス東京 講義室
                (〒100-0005 東京都千代田区丸の内1丁目7-12 サピアタワー10F TEL:03-6266-9520 FAX:03-6266-9522) 
    http://www.konan-u.ac.jp/tokyo/access/index.html
        担当 : 寺内 衛 <甲南大学>
        詳細

第183回 研究集会
        日時: 2015年7月10日(金) 9:00-16:40
        場所: 機械振興会館 B2 研修B2-1号室
    http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
	オーガナイザー	:廣木 彰 <京都工芸繊維大学> 
        担当	    :宇野 重康 <立命館大学>
        詳細

 第182回 研究集会
        日時: 2015年6月19日(金)9:30-17:30
        場所: 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 3階ベンチャーホール
    http://www.vbl.nagoya-u.ac.jp/access/index.html
	担当: 喜多浩之 (東大)、影島博之(島根大)
        詳細

 第181回 研究集会
        日時: 2015年5月21日(木)13:00-17:30
        場所: 東京工業大学 蔵前会館 手島精一会議室
    http://www.somuka.titech.ac.jp/ttf/access/index.html
	担当: 原田哲男(兵庫県立大学)
        詳細


2014年度

    第180回 研究集会
        日時: 2015年3月2日(金)10:00-16:00
        場所: 機械技術振興会館 地下3階 研修1号室
    http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
	担当: 近藤英一 (山梨大学)
        詳細

    第179回 研究集会
        日時: 2015年2・・7日(金)13:30-18:00
        場所: 学習院大学 南1号館101教室
    http://www.gakushuin.ac.jp/univ /etc/access.html
	担当: 太子敏則(信州大)、
      	泉妻宏治(グローバルウェーハズ・ジャパン)
        詳細

    第178回 研究集会
        日時: 2015年2月13日(金)13時より
        場所: 東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室
(東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
    http://sogo.t.u-tokyo.ac.jp/access.html
	担当: 一木隆範 (東京大学大学院工学系研究科)
        詳細

    第177回 研究集会
        日時: 2015年1月27日(火) 10:00-17:10
        場所: 機械振興会館 地下3階研修1号室
    http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
	担当:寺内衛(甲南大学マネジメント創造学部)
        詳細

    第176回 研究集会
        日時: 平成26年11月6日(木)10:00〜15:30, 11月7日(金)10:00〜14:40
        場所: 機械振興会館 地下3階2号室
    http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
	担当: 安斎久浩 (ソニー_SDM), 林 洋一 (ラピスセミコンダクタ)
        詳細

    第175回 研究集会
        日時: 平成26年8月8日(金)10:00〜17:00
        場所: 産業技術総合研究所臨海副都心センター
    https://unit.aist.go.jp/waterfront/access/
	担当: 寺内 衛 (甲南大学)
        詳細

    第174回 研究集会
        日時: 平成26年7月4日(金)10:00〜16:30
        場所: 機械振興会館 B2 研修1号室
     http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
	担当: 林 洋一 (ラピスセミコンダクタ)
	テーマ:「新材料系デバイスのモデリング技術」
        詳細

    第173回 研究集会
        日時: 平成26年6月19日(金)9:30〜17:35
        場所: 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
        本部・情報棟1F ネットワーク会議室
    http://www.vbl.nagoya-u.ac.jp/access/index.html
	担当: 蓮沼隆(筑波大)、喜多浩之(東大)
	テーマ:「新機能素子形成技術」
        詳細


    第172回 研究集会
        日時: 平成26・N5月23日(金)12:55〜17:45
        場所: 産業技術総合研究所 つくば中央第2事業所
        本部・情報棟1F ネットワーク会議室
    http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html
	担当: 種村眞幸(名工大)、寒川誠二(東北大学)、遠藤和彦(産総研)
	テーマ:「グラフェンナノ構造の革新的デバイスへの展開」
        詳細

    第171回 研究集会
        日時: 平成26年5月22日(木)13:00〜17:00
        場所: 東京工業大学 蔵前会館 ロイヤルブルーホール
    http://www.somuka.titech.ac.jp/ttf/access/index.html
	担当: 原田哲男(兵庫県立大学)
	テーマ:「SPIE Advanced Lithography 2014 特集」
        詳細


2013年度

    第170回 研究集会
        日時: 平成26年3月3日(木)13:00〜17:10
        場所: 日本大学駿河台キャンパス1号館 3階131教室
	http://www.cst.nihon-u.ac.jp/information/surugadai.html
        担当: 高橋芳浩 (日本大学),森田行則 (産業技術総合研究所)
	テーマ:「半導体デバイスに対する放射線照射効果」
        詳細

    第169回 研究集会
        日時: 平成26年2月28日(金)9:25〜16:25
        場所: 機械振興会館 地下3階 研修1号室
	http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
        担当: 近藤英一 (山梨大学)
	テーマ:「配線・実装技術と関連材料技術」
        詳細

    第168回 研究集会
        日時: 平成26年2月14日(金)13:00〜17:30
        場所: 東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室
        担当: 一木隆範(東京大学)
	テーマ:「微細加工プロセスの最前線」
        詳細

    第167回 研究集会
        日時: 平成26年1月29日(水)9:30〜17:00
        場所: 機械振興会館 地下3階 研修1号室
	http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
        担当: 坂本邦博(産業技術総合研究所)
	テーマ:「先端CMOSデバイス・プロセス技術(IEDM特集)」
        詳細

    第166回 研究集会
        日時: 平成25年11月14日(木)10:00〜16:40, 11月15日(金)10:00〜15:50
        場所: 機械振興会館 地下2階 研修1号室
	http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/
        担当: 林洋一(ラピスセミコンダクタ)、日高剛(パナソニック)
	テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」
        詳細

    第165回 研究集会
        日時: 平成25年11月11日(月)12:55〜17:45
        場所: 産業技術総合研究所 つくば中央第2事業所 本部・情報棟1F ネットワーク会議室
	http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html
        担当 種村眞幸(名工大)、寒川誠二(東北大学)、遠藤和彦(産総研)
	テーマ: 「グラフェンナノデバイスの新しい展開」
        詳細

    ・・64回 研究集会
        日時: 平成25年8月23日(金)12:55〜17:15
        場所: 産業技術総合研究所 つくば第2事業所 本部・情報棟1F ネットワーク会議室
	http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html
        担当: 寒川誠二(東北大学)、遠藤和彦(産総研)
	テーマ:テーマ:「最先端エネルギーナノデバイス」
        詳細

    第163回 研究集会
        日時: 平成25年8月7日(水)10:00〜17:10
        場所: 産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館バイオ・IT融合研究棟 11F 会議室1
	http://unit.aist.go.jp/waterfront/access/index.html
        オーガナイザ: 坂本邦博 (産総研)
	テーマ:テーマ:「先端CMOSデバイス・プロセス技術 (VLSIシンポジウム特集)」
        詳細

    第162回 研究集会
        日時: 平成25年7月12日(金)10:00〜16:30
        場所: 機械振興会館 B3 研修2号室(東京都港区芝公園3-5-8)
	http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
        オーガナイザ: 廣木彰 (京都工芸繊維大学)
        担当: 林洋一(ラピスセミコンダクタ)、日高・・パナソニック)
	テーマ:「大規模・高速・原子レベル計算が可能にする新規モデリング技術」
        詳細

    第161回 研究集会
        日時: 平成25年6月18日(火)9:00〜17:45
        場所: 機械振興会館(東京都港区芝公園3-5-8)
	http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
        共催: 電子情報通信学会SDM研究会
        担当: 蓮沼驕i筑波大学), 羽路伸夫(横浜国大)
	テーマ:「SiC-MOSゲートスタック技術の進展」
        詳細

     第160回 研究集会
        日時: 平成25年5月24日(金)13:00〜17:30
        場所: 中小企業会館(東京都中央区銀座2-10-18)
	http://www.tokyo-kosha.or.jp/kosha/office/chusho.html
        共催: 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会
        オーガナイザー: 原田哲男(兵庫県立大学)
	テーマ:「SPIE Advanced Lithography 2013 特集」
        詳細

2012年度

     第159回 研究集会
        日時: 平成25年3月15日(金)13:00〜17:10
        場所: 東京大学浅野キャンパス9号館1F大会議室
        協賛: 学振151委員会ナノバイオフュージョン分科会
        担当: ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
        詳細

     第158回 研究集会
        日時: 2013年3月7日(木) 13:00-17:30
        場所: 早稲田大学 研究開発センター120-5号館 大会議室 1F(〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513)
                http://www.waseda.jp/jp/campus/waseda.html
        オーガナイザー: 水野文二(パナソニック)
        コーディネーター: 右田真司(産総研)、品田賢宏(産総研)、筒井一生(東工大)、遠藤和彦(産総研)
        テーマ:「新材料時代における接合技術の挑戦」
        詳細

     第157回 研究集会
        日・栫F 2013年2月22日(金) 13:00-17:40
        場所: 日本大学駿河台キャンパス1号館(〒101-8308 東京都千代田区神田駿河台1-8-14)
                http://www.cst.nihon-u.ac.jp/map/suru.html
        担当: 高橋芳浩 (日本大学)、森田行則 (産業技術総合研究所)
        テーマ:「SOI関連技術の最近の進展」
        詳細

     第156回 研究集会
        日時: 2013年2月15日(金) 13:00-17:30
        場所: 東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室
                (東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
        担当: ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
        テーマ:「プラズマプロセスの最前線」
        詳細

     第155回 研究集会
        日時: 2013年2月4日(月) 10:00-16:50
        場所: 機械振興会館 地下3階研修1号室(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
            http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
        オーガナイザー: 近藤 英一 (山梨大学)
        テーマ:「配線・実装技術と関連材料技術」
        共催: 電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
        詳細

     第154回 研究集会
        日時: 2013年1月30日(水) 9:30-17:00 (終了後,懇親会)
        場所: 機械振興会館 地下3階研修2号室(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
            http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
        テーマ:「先端CMOSデバイス・プロセス技術(IEDM特集)」
        共催: 電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会
        詳細

     第153回 研究集会
        日時: 2012年11月15日(木)10:00-15:45、16日(金)10:00-16:10
        場所: 機械振興会館 B3 研修2号室
            (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
            http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
        オーガナイザー: 国清 辰也 <ルネサスエレクトロニクス SDM>、廣木 彰 <京都工繊大> 
        担当:佐藤 成生 <富士通セミコンダクター>、山川 真弥 <ソニー>
        テーマ: 「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」
        共催: 電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM) 
        詳細

     第152回 研究集会
        日時: 2012年9月4日(火)9:55-17:00
        場所: 産業技術総合研究所 つくば第2事業所
                本部・情報棟1F ネットワーク会議室
                http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html
        担当: 寒川誠二(東北大学)、遠藤和彦(産総研)
        共催: フロンティアプロセス研究会
        テーマ: 「最先端シリコンナノエレクトロニクスの動向と今後の展開」
        詳細

     第151回 研究集会
        日時: 2012年8月3日(金)10:00-17:10
        場所: 産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館バイオ・IT融合研究棟 11F 会議室1
                http://unit.aist.go.jp/waterfront/jp/menu/access_map/index.html
        テーマ・F 「先端CMOSデバイス・プロセス技術 (VLSシンポジウム特集)」
        詳細

     第150回 研究集会
        日時: 2012年7月5日(木)10:00-16:00
        場所: 機械振興会館 B3 研修1号室
            (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
            http://www.jspmi.or.jp/about/access.html
        オーガナイザー:廣木 彰 (京都工芸繊維大学)
        担当:佐藤 成生 (富士通セミコンダクター)、山川 真弥 (ソニー)
        テーマ: 「Beyond Mooreに向けたデバイスモデリング 」
        詳細

     第149回 研究集会
        日時: 平成24年6月21日(木)9:00〜18:00
        場所: 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 3階 ベンチャーホール
            (JR名古屋駅から名古屋市営地下鉄 「名古屋大学」 下車、3番出口から徒歩3分)
            http://www.vbl.nagoya-u.ac.jp/access/index.html
        担当:羽路伸夫(横浜国大)角嶋邦之(東京工業大学)
        テーマ: 「ゲートスタック技術の進展−不純物分布および接合界面制御を中心に」
        共催: 電子情報通信学会SDM研究会
        詳細

     第148回 研究集会
        日時: 6月14日(木) 14:30-17:30
        会場: グランキューブ大阪(大阪国際会議場)
            〒530-0005 大阪市北区中之島5-3-51
            http://www.gco.co.jp/
        オーガナイザー:水野文二(パナソニックFS)
        コーディネーター:柴田 聡(パナソニック)、濱本 成顕(日新イオン機 器)、張 利(東芝)岡部 堅一(富士通セミコンダクター)
        テーマ: 「イメージセンサー-パワーデバイスに今求められる接合形成技術」
        主催:応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
        共催:EEE EDS Kansai Chapter
        協賛:SEMIジャパン
        詳細

     第147回 研究集会
        日時: ・ス成24年5月24日(木)13:00〜17:30
        場所: ハロー会議室新富町(東京都中央区新富2丁目14番17号 新光第一ビル7F)
            http://www.hello-mr.net/chuo-city/shintomicho01/index.html
        オーガナイザー:古澤孝弘 (大阪大学)
        テーマ: 「SPIE Advanced Lithography 2012特集」
        共催: 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会
        詳細

2011年度

     第146回 研究集会
        日時: 平成24年3月9日(金)13:20〜17:30
        場所: 東京工業大学(大岡山キャンパス)蔵前会館 手島記念会議室
        オーガナイザ: 水野文二(パナソニック)委員長
        コーディネーター: 筒井一生(東工大)、品田賢宏(早大)、上嶋和也(ルネサスエ
                  レクトロニクス)、冨田隆治(ルネサスエレクトロニクス)
        テーマ: 「次世代デバイスに向けた接合の高機能化」
        詳細

     第145回 研究集会
        日時: 平成24年3月5日(月)10:00〜16:30
        場所: 機械振興会館 地下3階 研修1号室
        オーガナイザー:中塚 理 (名古屋大学)、近藤英一(山梨大学)
        テーマ: 「配線新技術と関連デバイス材料の動向」
        詳細

     第144回 研究集会
        ・時: 平成24年3月2日(金) 12:30〜18:00 (受付: 12:00)
        場所: 学習院大学 南7号館101教室(〒171-8577 東京都豊島区目白1-5-1 JR山手線目白駅 徒歩3分)
        オーガナイザー:泉妻 宏治 (コバレントシリコン)、深田 直樹(物質・材料研究機構)
        テーマ: 「シリコンの温故知新 〜私とシリコン〜」
        詳細

     第143回 研究集会
        日時: 平成24年2月17日(金) 13:00〜17:00
        場所: 東京大学浅野キャンパス工学部9号館大会議室
        (東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
        オーガナイザー:一木隆範(東京大学)
        テーマ: ・u新規プラズマ源とエッチング技術」
        詳細
        協賛:応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

     第142回 研究集会
        日時: 平成24年1月27日(金) 9:30〜17:00
        場所: 機械振興会館会議室 地下3階 研修1号室(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
        オーガナイザー:坂本邦博(産業技術総合研究所)
        テーマ: 「IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
        詳細

     第141回 研究集会
        日時: 平成23年11月10日(木) 10:00〜15:30、11日(金) 10:00〜17:00
        場所: 機械振興会館会議室:B3階 研修-1
        オーガナイザー:国清辰也(ルネサスエレクトロニクス、SDM)、山川真弥(ソニー)
        テーマ: 「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」
        詳細

     第140回 研究集会
        日時: 平成23年8月5日(金)9時〜17時
        場所: 東北大学流体科学研究所COE棟セミナー室
        オーガナイザー:寒川誠二(東北大)、遠藤和彦(産総研)
        テーマ: 「グリーン・ナノデバイスの新たな展開」
        共催:フロンティアプロセス研究会
        詳細

     第139回 研究集会
        日時: 平成23年7月21日(木)
        場所: 産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館バイオ・IT融合研究棟 11F 会議室1
        テーマ: 「VLSIシンポジウム特集 (先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
        詳細

     第138回 研究集会
        日時: 平成23年7月8日(金)10:00-16:20
        場所: 大阪大学サイバーメディアセンター豊中教育研究棟
        オーガナイザー:小・c中紳二(大阪大学)
        テーマ: 「半導体モデリング・シミュレーションの新展開」
        詳細

     第137回 研究集会
        日時: 平成23年7月4日
        場所: 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
        担当:角嶋邦之(東京工業大学・j藤岡洋(東京大学)
        テーマ: 「ゲートスタック技術の進展−半導体機能界面の特性評価を中心に」
        共催:電子情報通信学会SDM研究会
        詳細

     第136回 研究集会
        日時:2011年5月27日(金) 13:30-17:30
        場所:海事センタービル (東京都千代田区麹町4-5)
        オーガナイザ:古澤孝弘(大阪大学)
        テーマ:「SPIE Advanced Lithography 2011特集」
        共催:応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会
        スコープ: 2011年2月27日から3月3日に米国サンノゼにて開催された
              SPIE Advanced Lithography 2011のレビューを行なう。今回は分野・・フ
              概要報告とトピックスに関して、各分野の専門家にご講演を頂く。
        詳細

2010年度

     第135回 研究集会
        日時:2011年3月7日(月) 13:30-17:00
        場所:キャンパス・イノベーションセンター東京 多目的室2
             〒105-0023 東京都港区芝浦3-3-6
             JR田町駅より徒歩数分
             http://www.cictokyo.jp/access.html
        担当:接合技術研究会
        テーマ:「先端CMOSデバイスに応えるドーパント制御・接合形成・評価技術」
        オーガナイザー: 水野文二(UJTラボ)
        コーディネーター: 筒井一生(東工大) 品田賢宏(早大)
        趣旨: 本研究集会では、先端CMOSデバイス開発のトレンドを把握すると共に、
           次世代デバイス(SOI, FinFET, III-V FET)、アクティベーション、
           キャラクタリゼーション等の接合形成技術ならびに関連技術の最前線を学び、
           今後の研究開発の方向性を見出すことを目的とします。
        参加費:分科会員2000円,非分・ネ会員4000円。
        詳細

     第134回 研究集会
        日時:2011年3月4日(金) 13:00〜17:00
        場所:学習院大学 南7号館101教室
             (〒171-8577 東京都豊島区目白1-5-1 JR山手線目白駅 徒歩3分)           
             http://www.gakushuin.ac.jp/mejiro.html
        担当:表面・界面・シリコン材料研究委員会
        テーマ:「先端半導体デバイスの微細化に伴うシリコン基板への要求
             〜どこまで究極的にウェーハ平坦化が必要なのか〜」
        参加費:分科会員2000円,非分科会員4000円。
        詳細

     第133回 研究集会
        日時:平成23年2月18日(金)13:00〜18:00 
        場所:東京大学浅野キャンパス工学部9号館1階大会議室
             〒113-8656 東京都文京区弥生2-11-16
             http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_10_j.html
             東京メトロ千代田線「根津駅」或いは南北線「東大前駅」徒歩5分
    協賛:応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
        担当  : ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
    テーマ :最先端プラズマプロセスにおけるダメージ/バラつき/異物制御
    スコープ: 2010年秋冬に開催されたDPS、AVS、GECなどの国際学会で発表された
             集積デバイス製造のための先端プラズマプロセスに関する興味深い講演を招待し、
             さらに深い議論を行う。 
        参加費 : 通常分科会員2000円,非分科会員4000円 当日お受け致します(事前登録不要)
        詳細

     第132回 研究集会
        日時:平成23年2月7日(月)10:00〜17:00
        場所:機械振興会館 地下3階 研修1号室
             http:///www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
             都営地下鉄大江戸線赤羽橋駅下車 徒歩10分 
             都営地下鉄浅草線・大江戸線大門駅下車 徒歩10分
             JR浜松町駅下車 徒歩15分
        担当:多層配線システム研究委員会
        テーマ:「配線・実装技術と関連材料技術」
        参加費:1000円(1月26日変更)
        詳細

     第131回 研究集会
        日時:2011年1月31日(月) 9:30 - 17:00・i終了後,懇親会)
        場所:機械振興会館 地下3階 研修2号室(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
             http:///www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
        担当:ULSIデバイス研究委員会
        テーマ:「IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
        参加費:分科会員 1000円、非分科会員 1500円
        共催:電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会
        詳細

     第130回 研究集会
        日時:平成23年1月24日(月)13:00〜18:00
        場所:東京大学浅野キャンパス工学部9号館1階大会議室 
       (東京都文京区弥生2-11-16、千・纉c線根津駅或いは南北線東大前駅下車) 
       http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_10_j.html)
    担当 : ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
    テーマ : 「バイオ・医療診断デバイスの最前線」
    参加費 : 通常分科会員2000円,非分科会員4000円。
    詳細

     第129回 研究集会
        日時:平成22年12月20日(月)13:00〜18:10
        場所:早稲田大学 早稲田キャンパス 研究開発センター120-5号館
             〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513
             http://www.waseda.jp/jp/campus/waseda.html)
             東京メトロ東西線「早稲田駅」3a出口徒歩3分
    担当:シリコンナノテクノロジー委員会
    テーマ:「エマージング技術とその回路技術」
    参加費:通常分科会員2000円,非分科会員4000円。
    詳細

     第128回 研究集会
        日時:2010年11月11日(木) 10:00〜15:30
           2010年11月12日(金) 10:30〜15:55
        場所:機械振興会館会議室:B3階 研修-1
	      (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
	      東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
           http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
    担当:モデリング研究委員会
    テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」
    参加費:分科会員 2000円、非分科会員 4000円
    共催:電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
    詳細

     第127回研究集会
        日時:2010年7月22日(木)
        場所:産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館バイオ・IT融合研究棟 11F 会議室1
	〒135-0064 東京都江東区青海2-4-7 
            http://unit.aist.go.jp/waterfront/jp/menu/access_map/index.html
        担当:ULSIデバイス研究委員会
        テーマ:「VLSIシンポジウム特集(先端 CMOSデバイス・プロセス技術)」
        参加費:分科会員 2000円、非分科会員 4000円
        詳細

     第126回研究集会
        日時:2010年7月9日(金) 
        場所:機械振興会館会議室:B3階 研修-2    
           (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
           東京メトロ日比谷線神谷町駅下車徒歩8分
            http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
        オーガナイザー:松澤一也、園田賢一郎
        担当:モデリング研究委員会
        テーマ:「エマージング・デバイスのモデリングに向けて」
        参加費:分科会員 2000円、非分科会員 4000円
        詳細

     第125回研究集会
        日時:2010年6月22日(火)
        場所:東京大学駒場リサーチキャンパス生産技術研究所 An棟中セミナー室 (An401・402)   
	http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html)      
    担当:表面・・E面・シリコン材料研究委員会
        テーマ:「ゲートスタック技術の進展 −新構造・新材料を中心に」
    共催:電子情報通信学会SDM研究会
    参加費:無料 (講演予稿集1500円)
    懇親会:2000円
        詳細

     第124回研究集会
        ・時:2010年5月31日(月)
        場所:グランキューブ大阪           
    担当:接合技術研究委員会
        テーマ:接合研究集会 「Lab からFab へ 〜今使える最先端ドーピング・接合技術」
        共催:SEMI Japan
        協賛:IEEE Kansaiチャプタ
        詳細

     第123回研究集会
        日時:2010年5月24日(月)
        場所:海事センタービル (東京都千代田区麹町4-5)         
    担当:リソグラフィ研究委員会
        テーマ:「SPIE Advanced Lithography 2010特集」
        共催:応用物理学会・次世代リソグラフィ技術研究会
        参加費:分科会員 2000円、非分科会員 4000円
        詳細

2009年度

     第122回研究集会
        日時:2010年3月24日(水) 10:00 - 16:00
        場所:早稲田大学 早稲田キャンパス 研究開発センター120-5号館
           〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513
           http://www.waseda.jp/jp/campus/waseda.html
           東京メトロ東西線「早稲田駅」3a出口徒歩3分             
    担当:Siナノテクノロジー研究委員会
        テーマ:「シリコンプラットフォームテクノロジ」
        詳細

     第121回研究集会
        日時:2010年3月12日(金) 13:00 - 17:00
        場所:学習院大学 南2号館200教室
      (〒171-8577 東京都豊島区目白1-5-1 JR山手線目白駅 徒歩3分)
             http://www.gakushuin.ac.jp/mejiro.html
    担当:表面・界面・シリコン材料研究委員会
        テーマ:「半導体シリコン単結晶ウェーハを特徴づける評価技術」
        詳細

     第120回研究集会
        日時:2010年2月25日(木) 13:00 - 17:00
        場所:東京大学浅野キャンパス工学部9号館1階大会議室
      (東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
             http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_10_j.html
    担当:ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
        テーマ:「エッチング技術の最近のトピックスと将来展開」
        詳細

   第119回研究集会
        テーマ:「配線・実装技術と関連材料技術」        
        応用物理学会シリコンテクノロジー分科会多層配線システム研究委員会主催 
        (電子情報通信学会  シリコン材料・デバイス研究会(SDM) 共催)
        日時 平成22年2月5日(金)10:00 - 17:20
        会場 機械振興会館 地下3階 研修1号室 
        詳細は http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm をご覧ください。
        交通 営団地下鉄日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
           営団地下鉄三田線御成門駅下車 徒歩8分
           都営地下鉄大江戸線赤羽橋駅下車 徒歩10分 
           都営地下鉄浅草線・大江戸線大門駅下車 徒歩10分
           JR浜松町駅下車 徒歩15分        
         詳細

     第118回研究集会
        日時:2010年1月29日(金) 9:30 - 17:00(終了後,懇親会)
        場所:機械振興会館 地下3階 研修1号室(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
          http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
        テーマ:「IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
        共催:電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会
        詳細
             
     第117回研究集会
        日時:2010年 1月22日(金) 13:00〜17:00
        場所:早稲田大学 早稲田キャンパス 研究開発センター120-5号館
          〒162-0041 東京都新宿区早稲田鶴巻町513
          http://www.waseda.jp/jp/campus/waseda.html
          東京メトロ東西線「早稲田駅」3a出口徒歩3分
        オーガナイザー:水野文二(UJTラボ)
        コーディネーター:青山敬幸(Selete)、川崎洋司(ルネサス)、品田賢宏(早稲田大)
        テーマ:接合研究集会「不純物ドーピングの挑戦と将来展望−不純物ドーピングは使えるか?」
        参加費:分科会員 2,000円 非分科会員 4,000円
        共催:SEMIジャパン
        詳細
              
     第116回研究集会
        日時: 2009年11月12日(木) 10:00〜16:20
                2009年11月13日(金) 10:00〜16:15
        場所: 機械振興会館 地下3階研修1号室
               〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
               東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
                http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
        オーガナイザー:小田中紳二、青木伸俊、秋山豊
        テーマ:プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
        参加費:分科会員 2000円、非分科会員 4000円
        共催: 電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
        詳細
 
     第115回研究集会
        「VLSIシンポジウム特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
        日時: 2009年7月21日(火) 9:30〜17:20
        場所: 東京大学浅野キャンパス 武田先端知ビル 5階 武田ホール
             (東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅あるいは南北線東大前駅下車)
             http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_16_j.html
        担当: ULSIデバイス研究委員会
        参加費:分科会員2000円、非会員4000円
        詳細

     第114回研究集会
        日時: 2009年7月9日(木) 10:40-16:00
        場所: 機械振興会館会議室:6-66 
         〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
         東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
         http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
        オーガナイザ: 松澤一也、小川真人、小田中紳二
        テーマ: 信頼性モデリング 〜あなたはそのデバイスを信頼しますか?〜
        参加費: 分科会員 2000円、非分科会員 4000円
        詳細

     第113回研究集会
        日時:2009年6月19日(金)9:00〜18:05
    会場:東京大学駒場リサーチキャンパス
     生産技術研究所 An棟中セミナー室 An401・402
     (〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1.
      東北沢駅より徒歩7分, 駒場東大前駅より徒歩10分
      または代々木上原駅より徒歩12分.
      http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html
  ・@   東京大学 生産技術研究所 藤岡洋.03-5452-6342)
        詳細

     第112回研究集会
        日時: 2009年5月20日(水) 13:30-17:00
        場所: 中小企業会館 (東京都中央区銀座2-10-18)
        オーガナイザ: 井谷俊郎 (Selete)
        テーマ: SPIE Advanced Lithography 2009特集
        共催: 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会
        詳細

   IWJT 2009 (9th International Workshop on Junction Technology 2009)
        日時:2009年6月11日(木)〜12日(金)
        場所:京都大学・百周年時計台記念館
        共催:応用物理学会シリコンテクノロジー分科会、IEEE Electron Device Society
        協賛:SEMIジャパン、Chinese Institute of Electronics, 他
        URL : http://www.iwailab.ep.titech.ac.jp/IWJT/
        詳細問合せ先:IWJT 2009事務局
                      東京工業大学 筒井一生
                      Tel/Fax: 045-924-5462
                      E-mail: ktsutsui"at"ep.titech.ac.jp("at"は@に置き換えて下さい)
                      締め切り:一般投稿:2009年3月2日(月)
                      レート・ニュース:2009年4月20日(月)


2008年度

     第111回研究集会
	シリコンナノテクノロジー研究委員会
	テーマ:Siナノテクノロジーとスピントロニクス
	日時:平成21年3月16日(月)10:00〜17:00
	場所:東京工業大学百年記念館フェライト会議室
	   (http://www.libra.titech.ac.jp/cent/welcome5.html)
	詳細

  第110回研究集会
        応用物理学会シリコンテクノロジー分科会研究集会
    テーマ:シリコン単結晶ウェーハ製造におけるプロセス技術および評価のイノベーション
        日時:2009年3月6日(金) 13:30〜17:00
        場所:学習院大学 南2号館200教室
              (http://www.gakushuin.ac.jp/mejiro.html)
	詳細 

     第109回研究集会
	ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
	テーマ:エッチングテクノロジーとシミュレーションの最前線
	日時:平成21年2月25日(水)13:30〜17:00
	場所:東京大学浅野キャンパス武田先端知ビル3階306号室
	  (東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
	   http://www.vdec.u-tokyo.ac.jp/Guide/access.html
	詳細

     第108回研究集会
        多層配線システム研究委員会
    電・q情報通信学会  シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
        テーマ:配線・実装技術と関連材料技術
        日時:平成21年2月9日(月)10:00〜16:30
        場所:機械振興会館 地下3階 研修1号室
              (http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
	詳細

     第107回研究集会
	応用物理学会シリコンテクノロジー分科会研究集会
	兼 電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会
	テーマ:「IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
	日時:2008年1月26日(月)9:30 - 16:50(終了後,懇親会)
	場所:機械振興会館 地下3・K研修1号室
		(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
		(http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
	詳細

     第106回研究集会
        未踏・ナノテバイステクノロジー第151委員会研究会
    ナノバイオフュージョン分科会研究会
        テーマ:MicroTAS・MEMS/NTの化学・バイオ・医療応用への展開
        日時:2008年12月1日(月) 13:00〜17:30
        場所:早稲田大学理工学部 62号館W棟大会議室
              (http://www.sci.waseda.ac.jp/campus-map/)
	詳細 
      
      第105回研究集会
	電子情報通信学会 シリコン材料・テバイス研究会(SDM)
	テーマ:プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
	日時:2008年11月13日(木) 13:00〜16:00
	      2008年11月14日(金) 10:00〜17:05
	場所:機械振興会館 B3階 研修-1
	      (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
	       東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
	       http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
	詳細

      第104回研究集会
        ULSIデバイス研究委員会
        テーマ:「VLSIシンポジウム特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
        日時:2008年7月24日(木)9:50−17:15
        場所:東京大学生産技術研究所An棟3階大会議室
         〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1
       http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/
       生産技術研究所は,駒場リサーチキャンパス内にあります
       教養学部のキャンパスとは異なります.web・ナ場所をお確かめください
       (右上のAccess Mapをクリック,さらにキャンパスマップをクリック)
       生産技術研究所の「An棟」に入りエレベータで3階にお上がり下さい
       web上の地図では「A棟」となっていますが同じ建物です
       最寄り駅:井の頭線   駒場東大前駅
            小田急線   東北沢駅
            小田急線・地下鉄千代田線 代々木上原
        詳細

      第103回研究集会
	モデリング研究委員会
	テーマ:シリコンCMOSを超えるフロンティアデバイスのモデリング
	日時:2008年7月11日(金)9:55−16:30
	場所:機械振興会館 B3階 研修-1
	(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
	東京メトロ日比谷線神谷町駅下車 徒歩8分
	http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm)
	詳細

      第102回研究集会
	接合研究委員会
	テーマ:接合技術
	日時:2008年6月20日(金)13:30 〜 17:00
	場所:グランキューブ大阪 
	http://www.gco.co.jp
	詳細

      第101回研究集会
	表面・界面・シリコン材料研究委員会
	テーマ:「ゲートスタック構造の新展開:高移動度チャネル技術を中心に」
	日時:2008年 6月 9日(月) 13:30〜17:40 (懇親会18:00-19:30)
	      2008年 6月10日(火) 09:30〜15:00
	会場:東京大学 駒場リサーチキャンパス生産技術研究所
	      An棟中セミナー室 (An401・402)
	      〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1
         http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/campusmap.html
         http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html
	共催:電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
	詳細

      第100回研究集会
	オーガナイザ:井谷俊郎 (Selete)
	テーマ:SPIE Advanced Lithography 2008特集
	日時:2008年5月16日(金) 13:30-17:00
	場所:東京工業大学 大岡山キャンパス 南3号館2階電気系第1会議室
	詳細


2007年度

      第99回研究集会
	多層配線システム研究委員会
	テーマ:配線・実装技術と関連材料技術
	日時:平成20年2月8日(金)10:00 - 17:00
	場所:機械振興会館 地下3階 研修2号室 
	http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
	詳細

      第98回研究集会
	ULSIデバイス研究委員会
	(兼 電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会)
	テーマ 「IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
	日時:2008年1月24日(木)9:30 - 16:50(終了後,懇親会)
	場所:機械振興会館 地下3階 研修2号室(〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8)
	http://www.jspmi.or.jp/kaikan.htm
	詳細

      特別研究集会
	「ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理」(第13回研究会)
	日時:2008年1月14日(月)〜15日(火)
	場所:東レ総合研修センター(静岡県三島市末広町21-9)
	http://www.toray.co.jp/location/loc_401.html
	詳細

      第97回研究集会
	シリコンナノテクノロジー研究委員会
	テーマ:「Beyond CMOS」
	日時:11月26日(月)10:00〜17:00
	場所:東京工業大学 大岡山キャンパス  
	      東京工業大学百年記念館 フェライト会議室
	    (東京都目黒区大岡山2-12、大井町線或いは目蒲線大岡山駅下車)
  	http://www.libra.titech.ac.jp/cent/welcome5.html
	詳細

      第96回研究集会
	共催:電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
	   電子情報通信学会 VLSI 設計技術研究会(VLD)
	テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」
	日時: 平成19年10月30日(火) 〜 平成19年10月31日(水)
	場所: 機械振興会館 地下3階 研修−1室
       〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 地下鉄神谷町下車徒歩10分
	http://www.jspmi.or.jp/
	詳細

   論文募集
	SDM,VLD,応物シリコンテクノロジー分科会共催研究会
	テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」
	開催日時: 平成19年10月30日(火) 〜 平成19年10月31日(水)
	論文申込締切: 平成19年8月10日(金)
	場所: 機械振興会館 地下3階 研修1号室
       〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
	http://www.jspmi.or.jp/map.htm
	詳細

      第95回・、究集会
	ULSIデバイス研究委員会
	テーマ:「最先端CMOS技術(VLSIシンポジウム特集)」
	日時: 平成19年7月24日(火) 9:50 − 17:10
	場所: 東京大学生産技術研究所An棟3階大会議室
  	   〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1
       生産技術研究所は,駒場リサーチキャンパス内にあります。
       教養学部のキャンパスとは異なります。
       生産技術研究所の「An棟」に入りエレベータで3階にお上がり下さい
       web上の地図では「A棟」となっていますが同じ建物です
       最寄り駅:井の頭線   駒場東大前駅
            小田急線   東北沢駅
            小田急線・地下鉄千代田線 代々木上原駅
	アクセスマップ:http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html
	キャンパスマップ:http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/campusmap.html
	詳細

      第94回研究集会
	モデリング研究委員会
	テーマ:「統計的ばらつきを考慮したTCADへ向けて」
	日時: 平成19年7月6日(金) 9:55−16:10
	場所: 機械振興会館 6階 66会議室
  	  (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 地下鉄神谷町下車徒歩10分)
  	http://www.jcmanet.or.jp/gaiyo/map_kaikan.htm
	詳細

   第93回研究集会
     表面・界面・シリコン材料研究委員会
     テーマ:「ゲートスタック構造の新展開」
     日時:平成19年6月 7日(木) 13:30-17:45 (懇親会18:00-19:30)
            6月 8日(金) 09:00-15:55
     場所:広島大学 東広島キャンパス 学士会館2階ホール
     (東広島市鏡山1丁目2-2 JR西条駅から広島大行きバス15分 「広大中央口」下車徒歩10分)
        キャンパスMAP:http://www.hiroshima-u.ac.jp/add_html/access/ja/saijyo2.html
        東広島キャンパスへのアクセス:http://www.hiroshima-u.ac.jp/category_view.php?folder_name=access&lang=ja
     共催:電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
     詳細

   第92回研究集会
     リソグラフィ研究委員会
     テーマ:「SPIE Advanced Lithography 2007 特集」
     日時:平成19年5月11日(金)9:30-12:30
     場所:海事センタービル
     (東京都千代田区麹町4-5 有楽町線麹町駅徒歩1分)
     http://www.transport-pf.or.jp/etc/u1_19.html
     詳細


2006年度

   第91回研究集会
     多層配線システム研究委員会
     テーマ:「配線・実装技術と関連材料技術」
     日時:平成19年2月5日(月)10:00〜17:00
     場所:機械振興会館 地下3階2号室
     (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 地下鉄神谷町下車徒歩10分)
     http://www.jcmanet.or.jp/gaiyo/map_kaikan.htm
     共催:電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
     詳細

   第90回研究集会
     ULSIデバイス研究委員会
     テーマ:「IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
     日時:2007年 1月26日(金) 9:30〜17:00
     場所:機械振興会館 6階67号室
     (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 地下鉄神谷町下車徒歩10分)
     http://www.jcmanet.or.jp/gaiyo/map_kaikan.htm
     詳細

   第89回研究集会
     ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
     テーマ:「最先端プラズマプロセス技術」
     日時:12月19日(火) 13:00〜17:40
     場所:東京・蜉w浅野キャンパスVDEC(武田先端知ビル)5階武田ホール
     (東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
     http://www.vdec.u-tokyo.ac.jp/Guide/access.html
     詳細

   第88回研究集会
     リソグラフィ研究委員会
     テーマ:「レジストLineEdgeRoughnessの課題」
     日時:12月11日(月) 13:00〜17:30
     場所:東京工業大学大岡山キャンパス 西八号館大会議室E1001 
     http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayamaO-j.html
     の24番の建物
     詳細

   第87回研究集会
     表面・界面・シリコン材料研究委員会
     テーマ:「次世代プロセスを実現可能とする大口径Siウェーハの研究開発
                 −不純物や欠陥の新評価技術,強度維持,計算機シミュレーション−」
     日時:12月1日(金) 9:30・`17:00
     場所:東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル11階 ←変更あり
     金沢工業大学大学院 東京虎ノ門キャンパス
     http://www.kanazawa-it.ac.jp/tokyo/map.htm
     詳細

   第86回研究集会
     モデリング研究委員会
     テーマ:「半導体輸送モデリングの展開」
     日時:11月17日(金) 10:00〜16:50
     場所:大阪大学サイバーメディアセンター 7階(豊中地区)
     (大阪府豊中市待兼山町1番32号  TEL: 06-6877-5111(代))
     http://www.cmc.osaka-u.ac.jp/j/intro/location.html
     詳細

   第85回研究集会
     シリコンナノテクノロジー研究委員会
     テーマ:「次世代デバイスへのブレークスルー=三次元化の試み=」
     日時:9月29日(金)10:00〜17:00
     場所:東京工業大学百年記念館フェライト会議室
     (東京都目黒区大岡山2-12、大井町線或いは目蒲線大岡山駅下車)
     詳細

   第84回研究集会
     モデリング研究委員会
     テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」特集
     日時:2006年 9月25日(月) 13:30〜16:15
        2006年 9月26日(火) 10:00〜16:40
     場所:機械振興会館  地下3F 研修1号室
     (〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8.地下鉄神谷町下車徒歩10分)
     http://www.jspmi.or.jp/
     共催:電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SD・l)
        電子情報通信学会 VLSI 設計技術研究会(VLD)準備中
     詳細

   第83回研究集会
     ULSIデバイス研究委員会
         テーマ:最先端CMOS技術(VLSIシンポジウム特集)
         日時:2006年 7月20日(木)9:50〜17:40 (終了後,懇親会)
         場所:東・梠蜉w生産技術研究所An棟3階大会議室
         (東京都目黒区駒場4-6-1)
     http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/
     詳細

   第82回研究集会
         表面・界面・シリコン材料研究委員会
         テーマ:「ゲート絶縁膜技術の展開と諸問題〜Si(110)基板、窒素添加、メタルゲート〜」
         日時:2006年 6月21日(水) 13:00〜17:40
         場所:広島大学東広島キャンパス 学士会館2階ホール
         (東広島市鏡山1丁目2−2)
     詳細

   第81回研究集会
         接合技術研究委員会
         テーマ:接合技術ワークショップ
         日時:2006年 6月12日(月)13:30〜17:00
         場所:グランキューブ大阪(大阪国際会議場)10F 1002会議室
         (大阪市北区中之島5-3-51)
         共催:IEEE EDS Kansai Chapter, SEMIジャパン
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   第80回研究集会
         表面・界面・シリコン材料研究委員会
         テーマ:「シリコン結晶に関する基礎研究と応用技術ー若手研究者を中心とした討論会ー」
         日時:2006年 2月10日(金) 9:30〜17:00
         場所:学習院大学南3号館201教室(豊島区目白)
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   第79回研究集会
         多層配線システム研究委員会
         テーマ:「低誘電率層間膜,配線材料および一般」
         日時:2006年2月6日(月)10:00〜17:00
         場所:機械振興会館(東京タワー向かい) 6階67号室
    (東京都港区芝公園3-5-8)
         共催:電子通信情報学会シリコン材料・デバイス研究専門委員会
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   第78回研究集会
         ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
         テーマ:「バイオとエレクトロニクスの接点・融合」
         日時:2006年 2月1日(水) 12:40〜17:40
         場所:東京大学浅野キャンパスVDEC(武田先端知ビル)5階武田ホール
    (東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
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   第11回特別研究集会
         薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会
         テーマ:ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―
         日時:2月3日(金)〜4日(土)
         場所:東レ総合研修センター
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   第77回研究集会
         ULSIデバイス研究委員会
         テーマ:「IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)」
         日時:2006年1月20日(金)9:30〜17:00(終了後,懇親会)
         場所:機械振興会館 〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
         共催:電子情報通信学会シリコンデバイス・材料研究会
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2005年度

   第76回研究集会
         モデリング研究委員会
         テーマ:「TCAD技術の将来像」
         日時:2005年 11月25日(金) 9:40〜16:45
         場所:機械振興会館 地下3F 研修-2
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   第75回研究集会
         接合研究委員会
         テーマ:「接合技術ワークショップ(ドーピング、エピ、シリサイド)」特集
         日時:2005年 11月24日(木) 13:00〜17:00
         場所:慶應義塾大学 日吉キャンパス 来往舎
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         参加登録について

   第74回研究集会
         モデリング研究委員会
         テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」特集
         日時:2005年9月26日(月) 13:00〜16:00、9月27日(火) 10:00〜16:40
         場所:機械振興会館 地下3F 研修1号室
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   第73回研究集会
         ULSIデバイス研究委員会
         テーマ:最先端CMOS技術(VLSIシンポジウム特集)
         日時:2005年7月25日(月)9:50 - 17:30 (終了後,懇親会)
         場所:東京大学生産技術研究所 An棟2階 コンベンションホール
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   第72回研究集会
         リソグラフィー研究委員会
         テーマ: NGLワークショップ2005 特集
         日時: 2005年7月7日(木)、8日(金)
         場所: 日本科学未来館、下記Webに詳細あり。
        http://www.miraikan.jst.go.jp/
         共催:日本学術振興会「荷電粒子ビームの工業への応用」第132委員会
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         参加登録

   第71回研究集会
         ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
         テーマ:「65 nmから45 nmノードlow-kエッチングの最前線」
         ―low-kエッチングプロセスにおける課題とそのソリューション―
         日時:2005年6月22日(水)13:00〜17:50
         場所:東京大・w浅野キャンパスVDEC(武田先端知ビル)
         5階武田ホール(千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車
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         参加登録

   第70回研究集会
         表面・界面・シリコン研究委員会
         テーマ:ゲート絶縁膜の現状と課題 〜 誘電率と界面 〜
         日時:2005年6月9日(木)-10日(金)
         場所:広島大学 東広島キャンパス学士会館2階ホール
         共催:電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
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         参加登録

   シンポジウム
          シリコンテクノロジー分科会
     テーマ:来るべきナノCMOS時代に向けての挑戦とその課題
     日時:4月27日(木)- 28日(金)
     場所:早稲田大学 国際会議場 第3会議室
          共催:IEEE EDS Japan Chapter, 電気学会調査専門委員会,
          電子情報通信学会ESシリコン材料・デバイス研究専門委員会

   第69回研究集会
         多層配線システム委員会
         テーマ:低誘電率層間膜、配線材料及び一般
         日時:2005年1月31日(月)
         場所:機械振興会館 6階 67号室 〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
         共催:電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)

   第68回研究集会
         表面・界面・シリコン研究委員会
         テーマ:シリコンエピ,アニールウェーハの限界とそれを打破する欠陥制御,評価技術開発の挑戦
         日時:2005年2月4日(金)
         場所:学習院大学 南2号館200番教室(東京 豊島区目白)

   第10回特別研究集会
          薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会
     テーマ:ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―
     日時:1月28日(金)- 29日(土)
     場所:東レ総合研修センター

   第67回研究集会
         ULSIデバイス研究委員会
         テーマ:最先端CMOS技術(IEDM特集)
         日時:2005年1月21日(金)
         場所:日本大学理工学部・D橋キャンパス