日時：	2010年5月24日（月）　13：30-17：30
	
場所：	海事センタービル　（東京都千代田区麹町4-5）

オーガナイザ：	井谷俊郎

テーマ：	SPIE Advanced Lithography 2010特集

共 催：	応用物理学会　次世代リソグラフィ技術研究会

◆プログラム◆
(1)　会議全体報告　（EUVA　岡崎信次）

(2)　Optical Microlithography　（キヤノン　辻田好一郎）

(3)　EUV Lithography　（ニコン　村上勝彦）

(4)　Advances in Resist Materials and Processing Technology　（東京応化工業　佐藤和史）

(5)　Metrology, Inspection, and Process Control　（日立製作所　宍戸千絵）

(6)　Alternative Lithographic Technologies　（大日本印刷　法元盛久）

(7)　Design for Manufacturability through Design-Process Integration　（東芝　小林幸子）