第156回 研究集会 詳細
日時:2013年2月15日 13時より
場所:東京大学本郷キャンパス工学部9号館1階大会議室
(東京都文京区弥生2-11-16、千代田線根津駅或いは南北線東大前駅下車)
研究集会終了後、懇親会を開催します。
担当:ナノ・マイクロファブリケーション研究委員会
テーマ:「プラズマプロセスの最前線」
スコープ:今年度、プラズマ応用関連の国際学会であるAVS(米国真空学会)、
GEC(電離気体国際会議)、DPS(ドライプロセスシンポジウム)
や主要なデバイス関連学会で活躍された研究者を中心に招待し、
プロセステクノロジーとデバイステクノロジーの最新動向を
有機的に議論する場を提供する。
(以下、敬称略)
■開会の辞 13:00-13:05
■若手研究者13:05-15:25(質疑込み35分)
京大 津田 博隆 Siエッチングにおけるプラズマ・表面相互作用のモデリングと
形状進展シミュレーション
京大 松田 朝彦 プラズマからのイオン照射ダメージと光学的評価手法
阪大 伊藤 智子 プラズマエッチングにおけるナノメートル表面層反応機構の解明
名大 宮脇 雄大 ガスデザインに基づいた高選択絶縁膜エッチング実現の検討
(休憩15:25-15:35)
■特別講演■ 15:35-16:20(質疑込み45分)
慶應義塾大 真壁 利明 マイクロセル、大気圧プラズマのシミュレーション
■先端プラズマ応用技術■ 16:20-17:30(質疑込み35分)
東工大 野崎 智洋 シリコンインクおよび有機・無機ハイブリッド太陽電池の開発
TEL 守屋 剛 ドライエッチング装置 震災からの復興
(総合討論)
■閉会の辞
会議終了後 懇親会