日時：　平成25年5月24日（金）　13:00〜17:30
場所：　中小企業会館（東京都中央区銀座2-10-18）
　　　　http://www.tokyo-kosha.or.jp/kosha/office/chusho.html
オーガナイザ：　原田哲男（兵庫県立大学）
テーマ：　「SPIE Advanced Lithography 2013 特集」
主　催：　シリコンテクノロジー分科会　リソグラフィ研究委員会
共　催：　応用物理学会　次世代リソグラフィ技術研究会
参加費：　通常分科会員2000円，非分科会員4000円

＜プログラム＞
(1) 会議全体報告
　　　　ギガフォトン　岡崎信次
(2) Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
　　　　 ニコン　村上勝彦
(3) Alternative Lithographic Technologies　-　DSA
　　　　東京エレクトロン　永原誠司
(4) Alternative Lithographic Technologies　-　NIL
　　　　大日本印刷　林直也
(5) Alternative Lithographic Technologies　-　ML2
　　　　アドバンテスト　山田章夫 
(6) Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography
　　　　日立ハイテクノロジーズ 加藤毅
(7) Advances in Resist Materials and Processing Technology
　　　　富士フイルム　樽谷晋司
(8) Optical Microlithography
　　　　ニコン　青山肇
(9) Design for Manufacturability through Design-Process Integration
　　　　東芝　小林幸子
(10) Advanced Etch Technology for Nanopatterning 
　　　　日立製作所　佐竹真