第171回研究集会詳細

テーマ　「SPIE Advanced Lithography 2014 特集」
日　時：　平成26年5月22日（木）　13:00〜17:00
場所　東京工業大学　蔵前会館　ロイヤルブルーホール
http://www.somuka.titech.ac.jp/ttf/access/index.html

オーガナイザ：　原田哲男　兵庫県立大学

主　催：　シリコンテクノロジー分科会　リソグラフィ研究委員会
共　催：　応用物理学会　次世代リソグラフィ技術研究会
参加費：　通常分科会員2000円，非分科会員4000円

プログラム

�@ 会議全体報告
　　　　ギガフォトン　岡崎信次
�A Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
　　　　ニコン　村上勝彦
�B Alternative Lithographic Technologies
　　　　EUVL基盤開発センター　佐藤寛暢
�C Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography
　　　　日立ハイテクノロジーズ　岡川豊
�D Optical Microlithography
　　　　キヤノン　辻田好一郎