第172回研究集会詳細

テーマ　「グラフェンナノ構造の革新的デバイスへの展開」
日　時：　2014年5月23日（金）　12:55-17:45
場所 	産業技術総合研究所　つくば中央第２事業所
	本部・情報棟１F　ネットワーク会議室
http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html
担当　種村眞幸（名工大）、寒川誠二（東北大学）、遠藤和彦（産総研）
共催 ・フロンティアプロセス研究会、インテリジェントナノプロセス研究会
参加費：　通常分科会員2000円，非分科会員4000円
懇親会費：　3000円

プログラム

12:55-13:00　　開会のあいさつ

13:00-13:45
　「グラフェン中の純スピン流とスピン変換」
　　白石誠司(京大)
13:45-14-30
　「グラフェン/二次元層状化合物ヘテロ構造の作製と応用」
　　町田友樹(東大)
14:30-15:15
　「ナノカーボン, 単原子層物質のナノ光科学」
　　松田一成(京大)

(休憩)　15分

15:30-16:15
　「超低損傷中性粒子ビームエッチングによるエッジを制御
　　　　したグラフェンナノ構造の形成とデバイスへの展開」
　　寒川誠二(東北大)
16:15-17:00
　「複合構造形成によるグラフェン系材料の物性制御」
　　岡田晋(筑波大)
17:00-17:45
　「トポロジカル絶縁体の電子-ホールエンタングルメントと
　　　　スピンゼーベック効果におけるLandau-Lifshitz理論についての紹介」
　　佐藤浩司(東北大)

17:45  閉会のあいさつ

18:00　懇親会