第186回 研究集会 詳細

第186回 研究集会詳細 1. 日時 :2015年11月13日(金) 13:00-17:50 2. 場所 :産総研 つくば中央 本部情報棟ネットワーク会議室 (〒305-8560 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第1 つくば本部・情報技術共同研究棟 http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html 3. オーガナイザー:寒川誠二(東北大)、水林亘(産総研)、遠藤和彦(産総研) 4. テーマ :「金属酸化物の現状と最先端ナノデバイスへの展開」 5. 参加費 :分科会員 2000円、非分科会員 4000円 6. 懇親会 :終了後懇親会を行います。奮ってご参加ください(会費:別途) プログラム 11月13日(金) 13:00〜13:05 イントロダクション 寒川誠二(東北大) 13:05〜13:50「High-k絶縁膜技術」 鳥海明(東大) 13:50〜14:35「結晶酸化物のデバイス応用」 右田真司(産総研) 14:35〜15:20「抵抗変化型不揮発性メモリReRAM:研究開発の最前線」秋永広幸(産総研) 15:20〜15:30 休憩 15:30〜16:15「原子スイッチ」大野武雄 (東北大) 16:15〜17:00「Far Beyond CMOS:トポロジカルエレクトロニクスへ向けて」 川ア雅司(東大) 17:00〜17:45「酸化物半導体技術」 池田圭司(東芝) 18:00〜 懇親会