新領域「励起ナノプロセス」研究グループ

第１回研究会

記念写真

内容：各種励起プロセスの手法のレビューおよび最新のトピックスの紹介をもとに、それぞれの問題点と各種励起間の相互関係を議論しました。

＊＊＊＊＊＊＊＊　　プログラム　　＊＊＊＊＊＊＊＊
９月１１日（日）
15:00 - 15:10 はじめに：　篠塚雄三（和歌山大シス工）
15:10 - 16:10 カーボン系物質の電子励起構造変化：前田康二（東大工）
16:10 - 16:40 トンネル電子励起による非局所原子運動励起：小森文夫（東大物性研）
　　休　憩
16:50 - 17:50 金属の重イオン照射欠陥生成における電子励起効果：岩瀬彰宏（大阪府立大工）
17:50 - 18:20 電子励起による化合物ナノ粒子の相変化：保田英洋（神戸大自然）

19:00 - 21:00 夕食　懇親会　

９月１２日（月）
8:50 - 9:50 放射光内殻励起を利用したサイト選択的結合解離の可能性と問題点：間瀬一彦（高エネ研）
9:50 - 10:20 電子-極角分解イオンコインシデンス分光法を用いた H2O/Si(111)の内殻電子励起に由来するイオン脱離の研究：小林英一（高エネ研）
　　　　　　　　休　憩
10:30 - 11:30 軽元素化合物の軟X線再結合発光と格子ダイナミクス：原田慈久（理研／Spring8）
11:30 - 12:00 表面吸着原子のオージェ誘起脱離過程における２正孔状態ダイナミックス：萱沼洋輔（大阪府大工）
　　　　　　　　昼　食
13:00 - 14:00 入射酸素分子の並進運動エネルギーで誘起される極薄膜形成：寺岡有殿（原研）
14:00 - 14:30 多価イオンと固体表面との相互作用：戸名正英（電通大）
14:30 - 14:50 多価イオンによる水素終端シリコンからのプロトンスパッタリング：高橋学士（電通大）
14:50 - 15:00 おわりに
　　　　　　　　終　了

講演要旨：（当研究グループのメンバーのみdownload可）

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