新領域「励起ナノプロセス」研究グループ
新領域「励起ナノプロセス」研究グループ
テーマ：励起ナノプロセッシングの展望 日時：2006年 3月25日（土）13:00 〜 17:45 場所：武蔵工業大学（東京都世田谷区玉堤1-28-1） 企画趣旨：近年、レーザー光や電子線、イオンビームなどを制御しながら物質に照射することで効率的に機能性材料作製やナノスケール加工を目指す様々な励起プロセスが提案・開発されている。 そこでは物質に短時間に局所的なエネルギー注入することで原子の凝集形態変化を誘起させることを利用している。 それぞれ、照射するエネルギー量子（粒子）の種類、照射エネルギー密度J/m^2s、総照射量J/m^2、１量子（粒子）あたりのエネルギーの大きさは様々である。 また現象としても、一続きの量子力学的に扱える過程から、複雑な非平衡過程の末に形成されるもの、一方では通常の熱力学で扱えるものまで様々である。 注意すべきは、ナノスケールにおいてはそれぞれの区別は原理的に不明確となり渾然としてくることである。 現在、各励起プロセスはそれぞれ先端的な研究成果を生み出しつつあるが、逐一その物理機構が明らかになっているわけではなく、 個別的に現象論的なパラメータ制御をもとに手探り的に開発が進んできているのが現状である。 ここで一度、高い見地にたって全体を眺め渡すことが必要な時期にきている。各励起プロセスが全体に占める位置を確認し、 それぞれに内在する物理機構を分析し、相互関係を明らかにすることによって、各励起プロセスの機構解明の道が開け、効率と制御性、信頼性を飛躍させる近道にもなり、新機軸による励起プロセスの可能性も開けてくる。 以上の見地にたって本シンポジウムを企画した。イントロダクトリーにつづき、各励起プロセス研究の第一人者の方々にそれぞれの現状と展望を紹介していただく。 ＊＊＊＊＊＊＊＊ プログラム 各30分 ＊＊＊＊＊＊＊＊ イントロダクトリー：励起ナノプロセッシングの現状と展望 ・・ 和歌山大シス工 篠塚雄三 レーザー光弱励起によるナノプロセス ・・・・・・・・・ 阪大産研 谷村克己 レーザー光強励起によるナノプロセス ・・・・・・・・・ 阪大工 増原 宏 放射光励起によるナノプロセス ・・・・・・・・・・・・ 高エネ研 間瀬一彦 低速電子ビームによるナノプロセス ・・・・・・・・・・・・ 東大工 前田康二 休 憩 15分 高速電子ビームによるナノプロセス ・・・・・・・・・・・・ 阪大理 竹田精治 スマートプラズマプロセス ・・・・・・・・・・・・・・・ 名大工 堀 勝 分子ビームによるナノプロセス ・・・・・・・・・・・・・・ 原子力機構 寺岡有殿 集束イオンビームによるナノプロセス ・・・・・・・・・・・ 兵庫県大 松井真二 終 了 シンポジウム報告（応用物理vol.75 (2006) 6月号掲載） ホームに戻る © 応用物理学会 新領域「励起ナノプロセス」研究グループ |