「励起ナノプロセス」研究会

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ニュース・予定

第13回研究会を2018年1月20,21日に淡路夢舞台国際会議場にて開催しました。
今回のテーマは「ワイドギャップ半導体の励起ナノプロセス」です。

ワイドギャップ半導体は、IT、および省・創エネルギーに重要な材料として注目されています。その光物性発現への期待は大きく、種々の研究アプローチがとられています。今回の研究会では、ワイドギャップ半導体の励起ナノプロセスをテーマとしてとりあげ、種々の観点から最先端の研究を進められている光物性の先生方に招待講演者としてお集まりいただきました。２日間にわたって基礎から応用にわたる幅のひろい研究交流が行われました。
プログラムの詳細はこちらをご覧ください。

はじめに

本研究会は、色々な物質に種々の量子ビーム（光（赤外、可視、紫外、X線）、電子線、イオンなど）を照射して物質の構造を改変・創製する試みを対象に、基礎から応用にわたる研究交流の場を設けるため設置されました。

各励起プロセスに内在する物理機構、副次的に生じる励起の種類と相互関係を基礎的に探り、得られた知見をもとに基礎に裏付けられた物質構造のナノスケール改変・加工の指導原理を確立します。

2004年10月に応用物理学会内に新領域研究グループとして発足しました。3年間にわたり研究会やシンポジウムの開催などを実施した結果をふまえ、さらに活発的に研究交流・推進を行うために規模を拡大し、2008年1月から研究会組織となりました。