1999春 (第46回)
開催テーマ:大口径時代のシリコン結晶
1999年春季第46回応用物理学関係連合講演会でのシンポジウム
開催概要
- 開催日時
- 1999年03月30日
- 会場
- 東京理科大学 野田校舎
- 主催
- 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会
1 | シリコン結晶の現況と将来 | 阿部 孝夫 (信越半導体) |
2 | シリコン結晶成長における融液流動と凝固界面制御 | 柿本 浩一 (九大工) |
3 | シリコン融液と石英ガラスの反応と酸素の輸送現象 | 寺嶋 一高 (湘南工大) |
4 | CZシリコン単結晶中の成長時導入欠陥の制御 | 降屋 久、原田 和浩、古川 純 (三菱マテリアルシリコン) |
5 | ウェーハ高温アニールによる結晶欠陥の低減 | 佐野 正和、足立 尚志、定光 信介 (住友金属) |
6 | 次世代デバイスから見たシリコンウェーハ | 金田 寛 (富士通) |
7 | シリコンエピタキシャルウェーハの製造技術 | 今井 正人、黛 雅典、井上 和俊、中原 信司、儀間 眞敏 (スーパーシリコン研) |
8 | シリコン結晶材料開発の課題 | 角野 浩二 (新日鐵) |