2005秋 (第66回)
開催テーマ：最先端電子顕微鏡でここまでわかる－結晶・デバイス開発とナノスケール分析評価－
2005年秋季第66回応用物理学会学術講演会でのシンポジウム
開催概要
- 開催日時
- 2005年09月08日
- 会場
- 徳島大学
- 主催
- 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会
| 1 | 13:30～13:35 | はじめに | 酒井 朗 (名大工) |
| 2 | 13:35～14:10 | 超高圧電子線トモグラフィーによるLSIデバイスの立体構造解析 | 鷹岡 昭夫1，吉田 清和1，朝山 匡一郎2，小笠原 光雄3，富田 正弘4，森 博太郎1 (阪大超高圧電顕セ1，ルネサステクノロジ2，日立サイエンス3，日立ハイテク4) |
| 3 | 14:10～14:45 | 電子線ホログラフィーによる半導体内ドーパントプロファイル解析 | 平山 司 (ファインセラミックスセ) |
| 4 | 14:45～15:20 | 収差補正TEMによる半導体界面微細構造の観察 | 田中 信夫 (名大エコトピア科研) |
| 5 | 15:20～15:55 | 超高圧電子顕微鏡・分析電子顕微鏡による半導体材料の解析 | 桑野 範之 (九大産学連携セ) |
| 15:55～16:10 | 休憩 |
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| 6 | 16:10～16:45 | TEM-EELSによる半導体デバイスの解析技術 | 朝山 匡一郎，荒川 史子，橋川 直人，矢野 史子 (ルネサス)・寺田 尚平 (日立日立研) |
| 7 | 16:45～17:20 | STEM-CBEDによる半導体デバイスの応力解析 | 添田 武志 (富士通研) |
| 8 | 17:20～17:55 | High-k絶縁膜のバンドギャップのSTEM-EELS分析 | 五十嵐 信行，間部 謙三，高橋 健介 (NECシステムデバイス研) |
| 9 | 17:55～18:05 | まとめ | 柿林 博司 (日立中研) |
結晶工学分科会、日本顕微鏡学会共同企画