公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会

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第112回研究会 (2000.6)

開催日時: 2000年06月20日

開催テーマ:ジャイアントマイクロエレクトロニクスの結晶工学 —大面積ポリシリコンとその応用—

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開催概要

開催日時
2000年06月20日
会場
島津製作所大阪支社マルチホール
主催
公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会
  • イントロダクトリー

    北原 邦紀 (島根大)

  • 異種基板上への多結晶Si直接堆積と電子物性制御

    冬木 隆, 畑山 智亮, 浦岡 行治 (奈良先端大)

  • 高品質多結晶シリコン薄膜形成技術

    鮫島 俊之 (東京農工大)

  • ガラス上におけるシリコンの核形成サイトと凝固方向制御 —単結晶Si-TFTの形成をめざして—

    原 明人, 佐々木 伸夫 (富士通研)

  • エキシマレーザ光照射によるSiの超巨大結晶粒薄膜の形成

    松村 正清 (東工大)

  • 低温ポリシリコンTFT技術 —p-Si-TFT技術の現状と将来展望—

    小穴 保久 (東芝)

  • 低温形成薄膜シリコン太陽電池

    山本 憲治 (鐘淵化学)

  • キャスト法による多結晶シリコン太陽電池

    白澤 勝彦 (京セラ)

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