第112回研究会 (2000.6) 開催日時: 2000年06月20日 開催テーマ:ジャイアントマイクロエレクトロニクスの結晶工学 —大面積ポリシリコンとその応用— コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 2000年06月20日 会場 島津製作所大阪支社マルチホール 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 イントロダクトリー 北原 邦紀 (島根大) 異種基板上への多結晶Si直接堆積と電子物性制御 冬木 隆, 畑山 智亮, 浦岡 行治 (奈良先端大) 高品質多結晶シリコン薄膜形成技術 鮫島 俊之 (東京農工大) ガラス上におけるシリコンの核形成サイトと凝固方向制御 —単結晶Si-TFTの形成をめざして— 原 明人, 佐々木 伸夫 (富士通研) エキシマレーザ光照射によるSiの超巨大結晶粒薄膜の形成 松村 正清 (東工大) 低温ポリシリコンTFT技術 —p-Si-TFT技術の現状と将来展望— 小穴 保久 (東芝) 低温形成薄膜シリコン太陽電池 山本 憲治 (鐘淵化学) キャスト法による多結晶シリコン太陽電池 白澤 勝彦 (京セラ)