第139回研究会 (2013.6) 開催日時: 2013年06月06日 開催テーマ:ワイドギャップ半導体の基板から展開するデバイス —GaN, SiC, Ga2O3結晶の最前線— コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 2013年06月06日 会場 京都テルサ 第一会議室 (西館3階) 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 【基調講演】パワーデバイス用ワイドバンドギャップ半導体材料の工業化への課題 乙木 洋平 (日立電線) SiC単結晶ウェーハ開発の現状とその課題 大谷 昇 (関西学院大) デバイスに向けた酸化ガリウム半導体の結晶成長と物性制御 藤田 静雄 (京都大) HVPEによるGaN結晶作製 碓井 彰 (古河機械金属) Naフラックス法によるGaN結晶育成技術 森 勇介 (大阪大) 様々な基板上へのGaN系LEDの現状と展望 天野 浩 (名古屋大学) SiC基板上へのIII族窒化物のコヒーレント成長 須田 淳 (京都大)