第153回研究会 (2020.11) 開催日時: 2020年11月19日 開催テーマ:紫外材料・デバイス開発の最前線~結晶成長の理解とデバイス開発~ 開催概要 開催日時 2020年11月19日 会場 Online開催 開催形式 オンライン 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 緩和した中間Al組成AlGaNの作製とUV-Bレーザの作製 岩谷 素顕1,佐藤 恒輔1,2,田中 隼也1,手良村 昌平1,大森 智也1,山田 和輝1,石塚 彩花1,下川 萌葉1,荻野 雄矢1,岩山 章1,3,竹内 哲也1,上山 智1,赤﨑 勇1,4,三宅 秀人3 (1名城大,2旭化成㈱,3三重大,4名大) AlNおよび高AlNモル分率AlGaN混晶におけるAl空孔複合体の役割 秩父 重英1,嶋 紘平1,小島 一信1,三宅 秀人2,上殿明良3 (1 東北大学,2 三重大学,3筑波大学) サファイア上AlN膜の高温アニールによる高品質化と深紫外LED開発 三宅 秀人,正直 花奈子,肖 世玉,上杉 謙次郎,窪谷 茂幸 (三重大学) HVPE法による単結晶AlN基板開発の進展 永島 徹 (トクヤマ) 酸化物半導体MgZnOの結晶成長とサブ200 nmの発光特性 尾沼 猛儀1,工藤 幹太1,石井 恭平2, 小野 瑞生1,太田 優一3, 金子 健太郎2,山口 智広1,藤田 静雄2,本田 徹1 (1工学院大学, 2京都大学,3 東京都立産業技術研究センター) 二次元ワイドバンドギャップ物質・六方晶窒化ホウ素の光学特性とその応用 渡邊 賢司,谷口 尚 (NIMS)