開催概要

開催日時

1980年05月20日 - 1980年05月21日

会場

学習院大学

主催

公益社団法人応用物理学会　結晶工学分科会

• Introductory Talk

  渡辺 正睛 (東芝総研)

• メカニカルゲッタリング

  渡辺 純二、澤田 廉士、唐木 俊郎 (電々公社武蔵野通研)

• イントリンシックゲッタリング

  津屋 英樹 (日電中研)

• 塩素添加熱処理によるシリコン中の積層欠陥のゲッタリング

  服部 毅、鈴木 俊治 (ソニー中研)

• レーザ照射によるシリコンの熱酸化積層欠陥制御

  川戸 清爾、簗田 鉄之助 (ソニー中研)

• 裏面ゲッターとMOS素子特性

  活田 健治 (電々公社武蔵野通研)

• 金属級シリコンから作製した拡散型太陽電池の不純物ゲッタリング

  斎藤 忠 (日立中研)

• GaAs気相成長における不純物ゲッタリング作用とその応用

  米野 純次、柴富 昭洋、大川 潭二 (富士通研)

• イオン注入によるGaAs中のCrのゲッタリング

  八木田 秀樹、小沼 毅、井上 薫 (松下半導体研)

• CZシリコン欠陥分類と繰り返し熱処理におけるゲッタリング効果

  有村 誠一、清水 保弘、山根 唯弘、村上 克己(大阪チタニウム)

• 2段階アニールSiウエーハのライフタイム評価

  山本 和彦、岸野 正剛、飯塚 隆 (超LSI共同研)