第86回研究会 (1985.2) 開催日時： 1985年02月22日 開催テーマ：SOI (Semiconductor on Insulator) —基礎と将来— コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 1985年02月22日 会場 学習院大学百年記念会館小講堂 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 SOI (Semiconductor on Insulator)技術 鶴島 稔夫 (電総研) エピタキシャル絶縁膜によるSOI構造 石原 宏 (東工大) 電子ビームアニールによるSOI構造 浜崎 利彦、須黒 恭一、丹呉 浩侑 (東芝超LSI研) レーザ再結晶化における配向性制御 江上 浩二、木村 正和 (日電基礎研) KClのグラフォエピタキシャル成長 小林 俊雄 (日立中研) SIMOXおよびFIPOS技術 泉 勝俊、今井 和雄 (電電公社厚木通研)
