第87回研究会 (1986.2) 開催日時： 1986年02月21日 開催テーマ：光励起プロセス技術 コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 1986年02月21日 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 光励起プロセス技術 英 貢 (豊橋技科大) 光CVDによる太陽電池用アモルファスSi膜の形成 小長井 誠 (東工大) 光励起Siエピタキシー 山崎 辰也、杉野 林志、伊藤 隆司 (富士通研) ジシランとアンモニアを用いた光CVDシリコン窒化膜の形成とその膜質評価 奥平 秀和、新谷 昭 (日立中研) VUV照射による光CVD-SiO2膜の形成 高橋 淳一、前田 正彦、牧野 孝裕 (厚木通研) レーザCVDによる金属膜形成 岸田 俊二 (日電光エレ研) 光励起エッチング 早坂 伸夫、関根 誠、岡野 晴雄、堀池 靖浩 (東芝超LSI研)
