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第87回研究会 (1986.2)

開催日時: 1986年02月21日

開催テーマ:光励起プロセス技術

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開催概要

開催日時
1986年02月21日
主催
公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会
  • 光励起プロセス技術

    英 貢 (豊橋技科大)

  • 光CVDによる太陽電池用アモルファスSi膜の形成

    小長井 誠 (東工大)

  • 光励起Siエピタキシー

    山崎 辰也、杉野 林志、伊藤 隆司 (富士通研)

  • ジシランとアンモニアを用いた光CVDシリコン窒化膜の形成とその膜質評価

    奥平 秀和、新谷 昭 (日立中研)

  • VUV照射による光CVD-SiO2膜の形成

    高橋 淳一、前田 正彦、牧野 孝裕 (厚木通研)

  • レーザCVDによる金属膜形成

    岸田 俊二 (日電光エレ研)

  • 光励起エッチング

    早坂 伸夫、関根 誠、岡野 晴雄、堀池 靖浩 (東芝超LSI研)

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