第96回研究会 (1991.6) 開催日時: 1991年06月07日 開催テーマ:酸化物超伝導体のエピタキシーの現状 コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 1991年06月07日 会場 京大会館 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 ヘテロ界面接合の視覚化と分子シミュレーンョン 宮本 明、乾 智行 (京大工) RHEED振動を用いた酸化物超伝導薄膜の成長 寺嶋 孝仁、坂東 尚周 (京大化研) In-SituモニタリングによるGaAs系薄膜のエピタキシー 小林直樹、堀越 佳治 (NTT基礎研) 酸化物超伝導薄膜用基板結晶とエピタキシー 宮澤 信太郎、笹岡 正弘、向田 昌志 (NTT LSI研) LEED/RHEED法による酸化物高温超伝導Bi系バルク単結晶の評価 岸田 悟、徳高 平蔵、西守 克己 (鳥取大工) 酸化物超電導薄膜における“エピタキシャル”成長 森下 忠隆 (超電導工学研)