第109回研究会 (1998.5) 開催日時: 1998年05月22日 開催テーマ:酸化物エレクトロニクスと結晶工学 コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 1998年05月22日 会場 島津製作所関西支社マルチホール 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 酸化物エレクトロニクス総論 鯉沼 秀臣 (東工大応用セラ研) 酸化物の特徴 理論的側面から 足立 裕彦 (京大院工) 酸化物結晶の導波型光波長変換デバイスへの応用 栖原 敏明 (阪大院工) TO薄膜のスパッタリング法による作製 草野 英二 (金沢工大) 集積回路キャパシタ材料 江口 和弘,清利 正弘,稗田 克彦,有門 経敏(東芝マイクロエレ研) 強誘電体メモリ材料 藤崎 芳久,鳥居 和功,三木 浩史,櫛田 恵子(日立中研) ZnO膜の弾性表面波フィルタへの応用 門田 道雄 (村田製作所) Pb系強誘電体薄膜の構造制御とセンサー・アクチュエーターへの応用 飯島 賢二 (松下電器中研)