公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会

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第109回研究会 (1998.5)

開催日時: 1998年05月22日

開催テーマ:酸化物エレクトロニクスと結晶工学

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開催概要

開催日時
1998年05月22日
会場
島津製作所関西支社マルチホール
主催
公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会
  • 酸化物エレクトロニクス総論

    鯉沼 秀臣 (東工大応用セラ研)

  • 酸化物の特徴 理論的側面から

    足立 裕彦 (京大院工)

  • 酸化物結晶の導波型光波長変換デバイスへの応用

    栖原 敏明 (阪大院工)

  • TO薄膜のスパッタリング法による作製

    草野 英二 (金沢工大)

  • 集積回路キャパシタ材料

    江口 和弘,清利 正弘,稗田 克彦,有門 経敏(東芝マイクロエレ研)

  • 強誘電体メモリ材料

    藤崎 芳久,鳥居 和功,三木 浩史,櫛田 恵子(日立中研)

  • ZnO膜の弾性表面波フィルタへの応用

    門田 道雄 (村田製作所)

  • Pb系強誘電体薄膜の構造制御とセンサー・アクチュエーターへの応用

    飯島 賢二 (松下電器中研)

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