第110回研究会 (1999.6) 開催日時： 1999年06月03日 開催テーマ：水素と結晶工学 —究極の軽元素を制御する— コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 1999年06月03日 会場 学習院創立百周年記念会館3F 小講堂 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 イントロダクトリー 小野 春彦 (NECシリコン研) 半導体結晶中の水素の形態 村上 浩一 (筑波大物理工) シリコン中の水素・点欠陥複合体 末澤 正志 (東北大金材研) シリコン中の水素のダイナミクス 上浦 洋一，福田 和久，山下 善文 (岡山大工) シリコン表面・界面の欠陥準位と水素による不活性化 宮崎 誠一 (広島大工) LCD用低温ポリシリコン中の水素の挙動 北原 邦紀 (島根大総合理工) 水素終端表面へのシリサイド膜成長 廣瀬 和之 (宇宙研) 水素イオン注入によるSOI形成 原 徹 (法政大工)
