開催概要

開催日時

1980年10月30日 - 1980年10月31日

会場

学習院大学百年記念会館

主催

公益社団法人応用物理学会　結晶工学分科会

• 分子線エピタキシーの現状

  高橋 清 (東工大工)

• MBEの成長機構

  河津 璋 (東大工)

• 蒸着膜の成長過程

  木下 是雄 (学習院大理)

• MBE装置

  中村 一雄 (日電アネルバ)

• MBE装置と超高真空技術

  小宮 宗治 (日本真空技術)

• Molecular Beam Deposition Systems
  —Recent Design and Configulation Development

  David Williams (バキュームジェネレーター)

• Si MBEの不純物制御

  坂本 統徳 (電総研)

• Si MBE膜の結晶性とキャリア濃度制御

  杉浦 英雄、山口 真史 (電電公社茨城通研)

• 分子線成長法によるシリコン薄膜の形成とその応用

  白木 靖寛 (日立中研)

• 半導体光素子を目指した分子線エピタキシャル技術の進展

  岡本 紘 (電電公社武蔵野通研)

• MBEによるIII-V化合物半導体のマイクロ波素子への応用

  冷水 佐寿 (富士通研)

• II-VI族化合物MBEの最近の動向

  八百 隆文 (電総研)

• 薄膜成長技術の現況と将来

  高木 俊宜 (京大工)