第8回講習会(1981) 開催日時： 1981年10月29日 - 1981年10月30日 開催テーマ：結晶プロセスにおけるレーザおよび電子ビームの応用 コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 1981年10月29日 - 1981年10月30日 会場 学習院大学百年記念会館小講堂 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 Introductory Talk 菅野 卓雄 (東大工)) レーザーアニーリングにおける不純物再分布の機構 佐藤 史郎、砂田 匡、千川 純一 (NHK基礎研) レーザーアニーリングにおける温度上昇 鳳 紘一郎 (電総研) アレクサンドライトのアニール装置 A. Samelson (Allied Co.) 電子ビームアニーリング 稲田 太郎 (法政大工) ビームプロセスによるシリサイド形成 石原 宏 (東工大総合理工) レーザーCVD 英 貢 (豊橋技科大) シリコンのレーザーゲッタリング 早藤 貴範、川戸 清爾 (ソニー中研) 化合物半導体のレーザーアニーリング 蒲生 健次 (阪大基礎工) シリコンのレーザーアニーリング 田村 誠男 (日立中研)
