第9回講習会(1982) 開催日時： 1982年10月21日 - 1982年10月22日 開催テーマ：混晶の基礎と実際 —相図から育成まで— コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 1982年10月21日 - 1982年10月22日 会場 機械振興会館第2研修室 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 相図の熱力学と統計力学 西岡 一水 (徳島大工) 相図の見方・しらべ方・つくり方 長崎 誠三 (アグネ技術センター) 相図作りの実際 芦田 佐吉、伊藤 由喜男 (日立) 硫化物の相平衡 —研究方法と相図— 苣木 浅彦 (東北大理) 固溶領域の検出と離溶 進藤 勇 (無機材研) 酸化物固溶体の育成 福田 承生 (光技術共同研) 混晶半導体の育成 —液相成長— 中嶋 一雄 (富士通研) 混晶半導体の育成 —気相成長— 関 寿 (農工大工) Immiscibility—III-V化合物半導体の場合 尾鍋 研太郎 (日電光エレクトロニクス研) 混晶半導体の評価 河東田 隆 (東大工)
