第13回講習会(1986) 開催日時： 1986年11月06日 - 1986年11月07日 開催テーマ：MOCVDの基礎と実際 コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 1986年11月06日 - 1986年11月07日 会場 学習院大学百年記念会館小講堂 MOCVDの現状と将来 福井 孝志 (NTT通研) MOCVD用原料(V族) 石黒 三郎 (古河鉱業) MOCVDの原理 佐藤 理夫、鈴木 基之 (東大生研) MOCVD用原料(III族ほか) 八子 忠明 (住友化学工業) MOCVD装置 桑麻 和広、林 俊雄 (日本真空技術) 安全対策 原田 光 (日本酸素) III-V族化合物の薄膜成長 中西 隆敏 (東芝総研) ワイドギャップII-VI族化合物のMOCVD 吉川 明彦 (千葉大) 光MOVPEの現状と将来 青柳 克信 (理化学研)
