第6回結晶工学セミナー(2000) 開催日時： 2000年11月09日 開催テーマ：IT時代を支えるシリコンプロセス技術 ～PVDとCVD～ コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 2000年11月09日 会場 学習院創立百周年記念会館3階 小講堂 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 PVD法の特徴と応用 水澤 寧 (アプライドマテリアルズジャパン) PVD法による酸化物薄膜作製技術 ～反応性スパッタリング法～ 草野 英二 (金沢工大) ECRスパッタによる低ダメージ絶縁物の形成 小野 俊郎 (NTT通信エネルギー研) 化学気相成長法の基礎 吉田 明，若原 昭浩 (豊橋技科大) CVD法によるSi系エピタキシャル薄膜の作製 羽深 等 (横浜国大) プラズマCVDによる絶縁物形成 辰巳 徹 (NECシリコンシステム研)
