第24回結晶工学セミナー(2019) 開催日時: 2019年12月18日 開催テーマ:ワイドギャップ半導体結晶の評価とプロセス技術 - 評価/プロセスからマテリアルの本質に迫る - コンテンツを読むためには会員のパスワードが必要です 開催概要 開催日時 2019年12月18日 会場 工学院大学 新宿キャンパス アーバンテックホール 主催 公益社団法人応用物理学会 結晶工学分科会 界面顕微光応答法による電極界面の欠陥、劣化過程の2 次元解析 塩島 謙次 (福井大学) 光熱偏向分光法によるギャップ中準位の評価 角谷 正友 (物材機構) 光音響・発光同時計測法による内部量子効率測定 山口 敦史 (金沢工業大学) 4H-SiC およびβ-Ga2O3の結晶欠陥 山口 博隆 (産総研) β-Ga2O3の透過電子顕微鏡を中心とした評価 上田 修 (明治大学) ICP-RIEによるGaNトレンチ構造の作製とトレンチ側壁ダメージの評価 山田 真嗣 (名古屋大学) GaN-MOSFET プロセスにおけるNH3雰囲気熱エッチングによるリセス形成の低損傷化 彦坂 年輝 (東芝)