20巻8号（1991年8月）　目次

巻 頭 言
光技術と半導体産業
吉田庄一郎
光リソグラフィー
解　説
リソグラフィの進展と新しい光源
鳳　紘一郎
エキシマレーザーリソグラフィ
中瀬　真
X線縮小投影露光装置
児玉賢一
位相シフト技術
岡崎信次
最近の短波長用レンズ材料
村原正隆
研　究
光磁気ヘッド用高密度デュアルグレーティング
前田英男・大内田　茂・北林淳一・井口敏之
平板マイクロレンズアレーを用いる微小光学イメージ前処理系の基礎的検討
秋葉　敦・村重 仁勇・伊賀健一
高輝度レベルの分光視感効率
山田　誠・佐川　賢・矢口博久・三宅洋一
明順応周辺網膜における色光の見え
高瀬正典・内川惠二
適応型空間フィルター検出器と高分解能スペックル変位計への応用
長山秀徳・岡本隆之・山口一郎
会よりのお知らせ