セミナー：デバイス製造における固液界面現象の科学と技術

第53回　薄膜・表面物理セミナー (2025)

我が国が復活を期す半導体製造において，ウェットプロセスは極めて重要な工程です．シリコン系から二次元材料，有機半導体までの多様な材料表面における高清浄化や三次元化，新機能の創出に対応できる洗浄やエッチング，コーティングや研磨等の研究開発が急務です．またこれには，固液界面に存在する電気二重層や狭所に閉じ込められた液体の挙動を正確に理解・制御することが不可欠です．加えて今日では，これらの課題解決に貢献できる先端的な人材の流動化や争奪戦が，世界レベルで起こっていることも特筆すべき点です．
本セミナーでは，次世代のデバイス製造で鍵となる固液界面現象に関わるサイエンスとテクノロジーの最前線を疾走する産官学の講師の方々に，最新の成果や話題をご紹介いただきます．

日時：2025年7月4日(金) 9:45-16:35

場所：大阪大学　中之島センター10F　佐治敬三メモリアルホール４（ハイブリッド開催）

１．プログラム

日時		講演テーマ	講師 (敬称略)
7 月 4 日（金）	9:45〜9:50	開会
	9:50〜10:40	界面化学から見る半導体洗浄技術の過去・現在・未来	田中孝佳 (SCREEN セミコンダクターソリューションズ)
	10:40〜11:30	シリコンバレーの半導体製造装置メーカーにおける先端デバイス開発の取り組み	北島知彦（Applied Materials）
	11:30〜12:50	昼食
	12:50〜13:40	ナノ流体デバイスで明らかにする数nmから数100nmの溶液物性や構造	馬渡和真（早稲田大）
	13:40〜14:30	ヘテロダイン検出振動和周波発検出生分光による水/酸化物界面の観測	田原太平（理研）
	14:30〜14:50	休憩
	14:50〜15:40	有機半導体の印刷成膜の現状と課題	藤井彰彦（大阪工大）
	15:40〜16:30	溶液処理による遷移金属ダイカルコゲナイドの光学特性変調	桐谷乃輔（東大）
	16:30〜16:35	閉会

２．参加費，テキスト代，消費税を含む．

薄膜・表面物理分科会会員*	応用物理学会会員** 協賛学協会会員	学生	その他
10,000円	15,000円	0円	25,000円

* 薄膜・表面物理分科会賛助会社の方は分科会会員扱いといたします．

** 応用物理学会賛助会社の方は，応用物理学会会員扱いといたします．

現在非会員の方でも，参加登録時に薄膜・表面物理分科会(年会費：正会員：2,200円，準会員：3,000円)にご入会いただければ，本セミナーより会員扱いとさせていただきます．
https://www.jsap.or.jp/ より入会登録を行い，会費支払及び仮会員番号を取得後，本セミナーにお申込み下さい．（年会費をセミナー参加費と同時にお振込なさらないで下さい．）

３．参加申込期間：2025年4月23日(水)～6月28日(土)

４．参加申込方法：

下記URLあるいはQRコードからイベントペイのサイトにアクセスし，参加登録してください．

https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=1804158131583761&EventCode=0797159211

コンビニ支払い，ペイジー決済可．
原則として，参加費の払い戻し，請求書の発行はできません．
領収書は申し込みサイトからダウンロード可能です．

５．参加費支払期限：2025年7月1日(火)

６．企画に関する問合せ先：

大阪大学　　　有馬健太

E-Mail: arima@prec.eng.osaka-u.ac.jp

大阪大学　　　須藤孝一

E-Mail: sudoh@sanken.osaka-u.ac.jp

７．参加登録問合せ先：

応用物理学会事務局分科会担当岡本晋一
TEL: 03-3828-7723
E-Mail: divisions@jsap.or.jp

更新：2025/3/8

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